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1. (WO2016142291) MEMS-SENSOR, INSB. DRUCKSENSOR
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2016/142291    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2016/054657
Veröffentlichungsdatum: 15.09.2016 Internationales Anmeldedatum: 04.03.2016
IPC:
B81B 3/00 (2006.01), G01L 9/00 (2006.01)
Anmelder: ENDRESS+HAUSER GMBH+CO. KG [DE/DE]; Hauptstr. 1 79689 Maulburg (DE)
Erfinder: TEIPEN, Rafael; (DE).
LEMKE, Benjamin; (DE)
Vertreter: ANDRES, Angelika; (DE)
Prioritätsdaten:
10 2015 103 485.9 10.03.2015 DE
Titel (DE) MEMS-SENSOR, INSB. DRUCKSENSOR
(EN) MEMS SENSOR, IN PARTICULAR A PRESSURE SENSOR
(FR) CAPTEUR MEMS, NOTAMMENT CAPTEUR DE PRESSION
Zusammenfassung: front page image
(DE)Es ist ein MEMS-Sensor zur messtechnischen Erfassung einer Messgröße mit verbesserter Überlastfestigkeit beschrieben, der mehrere aufeinander angeordnete Lagen (1, 3, 5), insb. Siliziumlagen, umfasst, dessen Lagen (1, 3, 5) mindestens eine innere Lage (5) umfassen, die zwischen einer ersten Lage (1 ) und einer zweiten Lage (3) angeordnet ist, und in dessen inneren Lage (5) mindestens eine senkrecht zur Ebene der inneren Lage (5) durch die innere Lage (5) hindurch verlaufende Ausnehmung (7) vorgesehen ist, an die außenseitlich zumindest abschnittweise ein ein Verbindungselement (9) bildender Bereich der inneren Lage (5) angrenzt, der mit der ersten Lage (1 ) und der zweiten Lage (3) verbundenen ist, der sich dadurch auszeichnet, dass eine die Ausnehmung (7) außenseitlich zumindest abschnittweise begrenzende Mantelfläche (11) des Verbindungselements (9) in einem der erste Lage (1) zugewandten Endbereich eine die Querschnittsfläche der Ausnehmung (7) in Richtung der ersten Lage (1 ) verkleinernde, abgerundete Formgebung aufweist, und in einem der zweiten Lage (3) zugewandten Endbereich eine die Querschnittsfläche der Ausnehmung (7) in Richtung der zweiten Lage (3) verkleinernde, abgerundete Formgebung aufweist.
(EN)The invention relates to a MEMS sensor for metrologically sensing a measurement variable having improved resistance to overloading, which MEMS sensor comprises a plurality of layers (1, 3, 5), in particular silicon layers, arranged one on the other, the layers (1, 3, 5) of which MEMS sensor comprise at least one inner layer (5), which is arranged between a first layer (1) and a second layer (3), and in the inner layer (5) of which MEMS sensor at least one cut-out (7) extending through the inner layer (5) perpendicularly to the plane of the inner layer (5) is provided, which cut-out is adjoined on the outside at least in some segments by a region of the inner layer (5) forming a connecting element (9), which region is connected to the first layer (1) and the second layer (3), the MEMS sensor being distinguished in that a lateral surface (11) of the connecting element (9) bounding the cut-out (7) on the outside at least in some segments has, in an end region facing the first layer (1), a rounded shape that reduces the cross-sectional area of the cut-out (7) in the direction of the first layer (1) and, in an end region facing the second layer (3), a rounded shape that reduces the cross-sectional area of the cut-out (7) in the direction of the second layer (3).
(FR)L'invention concerne un capteur MEMS, destiné à la détection métrologique d'une grandeur de mesure, qui présente une résistance améliorée contre les surcharges, lequel capteur comporte une pluralité de couches (1, 3, 5) disposées les unes sur les autres, notamment des couches de silicium, lesquelles couches (1, 3, 5) comportent au moins une couche intérieure (5) qui est disposée entre une première couche (1) et une deuxième couche (3) et, dans la couche intérieure (5), il est prévu au moins un évidement (7) qui s'étend à travers la couche intérieure (5) perpendiculairement au plan de la couche intérieure (5) et auquel une région, formant un élément de liaison (9), de la couche intérieure (5) est adjacente du côté extérieur au moins par endroits, laquelle région étant reliée à la première couche (1) et à la deuxième couche (3). L'invention est caractérisée en ce qu'une surface d'enveloppe (11) de l'élément de liaison (9), laquelle délimite l'évidement (7) du côté extérieur au moins par endroits, présente dans une région d'extrémité, dirigée vers la première couche (1), une conformation arrondie qui réduit l'aire en coupe transversale de l'évidement (7) dans la direction de la première couche (1) et dans une région d'extrémité, dirigée vers la deuxième couche (1), une conformation arrondie qui réduit l'aire en coupe transversale de l'évidement (7) dans la direction de la deuxième couche (1).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)