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1. (WO2016135279) SCHICHTAUFBAU FÜR MEHRSCHICHTIGE LAUE-LINSEN BZW. ZIRKULARE MULTISCHICHT-ZONENPLATTEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2016/135279 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2016/054058
Veröffentlichungsdatum: 01.09.2016 Internationales Anmeldedatum: 26.02.2016
IPC:
G21K 1/06 (2006.01)
G Physik
21
Kernphysik; Kerntechnik
K
Verfahren und Vorrichtungen zur Handhabung von Teilchen oder ionisierender Strahlung, soweit nicht anderweitig vorgesehen; Bestrahlungsvorrichtungen; Gamma- oder Röntgenstrahlmikroskope
1
Anordnungen zur Handhabung von ionisierender Strahlung oder von Teilchen, z.B. Fokussieren oder Moderieren
06
unter Anwendung von Beugung, Brechung oder Reflexion, z.B. Monochromatoren
Anmelder: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.[DE/DE]; Hansastraße 27c 80686 München, DE
Erfinder: BRAUN, Stefan; DE
KUBEC, Adam; DE
LESON, Andreas; DE
MENZEL, Maik; DE
Vertreter: PFENNING, MEINIG & PARTNER MBB; An der Frauenkirche 20 01067 Dresden, DE
Prioritätsdaten:
10 2015 203 604.927.02.2015DE
Titel (EN) LAYER STRUCTURE FOR MULTILAYER LAUE LENSES OR CIRCULAR MULTILAYER ZONE PLATES
(FR) STRUCTURE EN COUCHES POUR LENTILLES DE LAUE MULTICOUCHE OU LENTILLES ZONÉES MULTICOUCHE CIRCULAIRES
(DE) SCHICHTAUFBAU FÜR MEHRSCHICHTIGE LAUE-LINSEN BZW. ZIRKULARE MULTISCHICHT-ZONENPLATTEN
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a layer structure for multilayer Laue lenses or circular multilayer zone plates for x-ray radiation, comprising layers which are arranged on a substrate in an alternating manner and each of which is made of a material with a high refractive index and a material with a low refractive index. The layer structure is made of layers which are arranged in an alternating manner within periods consisting of a high-refractive layer, a low-refractive layer, and at least one third material for intermediate layers. Low-refractive layers have internal pressure stress and high-refractive layers have internal tension stress, and the product of the layer thickness and the internal stress is equal, or at least approximately equal, in magnitude. An intermediate layer is arranged between each of the high- and low-refractive layers.
(FR) L'invention concerne une structure en couches pour des lentilles de Laue multicouche ou des lentilles zonées multicouche circulaires pour des rayons X, comprenant des couches disposées en alternance sur un substrat, respectivement composées d'une matière ayant un indice de réfraction plus élevé et d'une matière ayant un indice de réfraction plus faible. Cette structure en couches est formée par des couches disposées en alternance à l'intérieur de périodes, composées d'une couche fortement réfractive, d'une couche faiblement réfractive et d'au moins un troisième matériau pour des couches intermédiaires. Les couches faiblement réfractives présentent ici une contrainte résiduelle de compression et les couches fortement réfractives une contrainte résiduelle de traction, et le produit de l'épaisseur de couche par la contrainte résiduelle est de valeur égale, au moins approximativement égale. Une couche intermédiaire est respectivement disposée entre les couches fortement et faiblement réfractives.
(DE) Die Erfindung betrifft einen Schichtaufbau für mehrschichtige Laue‐Linsen oder zirkulare Multischicht‐Zonenplatten für Röntgenstrahlung mit abwechselnd auf einem Substrat angeordneten Schichten aus je einem Werkstoff mit einem höherem Brechungsindex und einem Werkstoff mit einem niedrigeren Brechungsindex. Dieser Schichtaufbau ist aus alternierend angeordneten Schichten innerhalb von Perioden, bestehend aus einer hochbrechenden Schicht, einer niedrigbrechenden Schicht und mindestens einem dritten Werkstoff für Zwischenschichten gebildet. Dabei weisen niedrigerbrechende Schichten Druckeigenspannung und höherbrechende Schichten Zugeigenspannung auf und das Produkt aus Schichtdicke und Eigenspannung ist in seiner Größe gleich, zumindest annähernd gleich. Zwischen höher‐ und niedrigerbrechenden Schichten ist jeweils eine Zwischenschicht angeordnet.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)