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1. (WO2016109061) DETERMINING CRYPTOGRAPHIC OPERATION MASKS FOR IMPROVING RESISTANCE TO EXTERNAL MONITORING ATTACKS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2016/109061    Internationale Anmeldenummer    PCT/US2015/062150
Veröffentlichungsdatum: 07.07.2016 Internationales Anmeldedatum: 23.11.2015
IPC:
G06F 21/72 (2013.01)
Anmelder: CRYPTOGRAPHY RESEARCH, INC. [US/US]; c/o Rambus, Inc. 1050 Enterprise Way, Suite 700 Sunnyvale, California 94089 (US)
Erfinder: COOPER, Jeremy Samuel; (US)
Vertreter: PORTNOVA, Marina; (US)
Prioritätsdaten:
62/098,189 30.12.2014 US
Titel (EN) DETERMINING CRYPTOGRAPHIC OPERATION MASKS FOR IMPROVING RESISTANCE TO EXTERNAL MONITORING ATTACKS
(FR) DÉTERMINATION DE MASQUES D’OPÉRATION CRYPTOGRAPHIQUE POUR AMÉLIORER LA RÉSISTANCE À DES ATTAQUES DE SURVEILLANCE EXTERNES
Zusammenfassung: front page image
(EN)Systems and methods for determining cryptographic operation masks for improving resistance to external monitoring attacks. An example method may comprise: selecting a first input mask value, a first output mask value, and one or more intermediate mask values; based on the first output mask value and the intermediate mask values, calculating a first transformation output mask value comprising two or more portions, wherein concatenation of all portions of the first transformation output mask value produces the first transformation output mask value, and wherein exclusive disjunction of all portions of the first transformation output mask value is equal to the first output mask value; and performing a first masked transformation based on the first transformation output mask value and the first input mask value.
(FR)L’invention concerne des systèmes et des procédés pour déterminer des masques d’opération cryptographique pour améliorer la résistance à des attaques de surveillance externes. Un procédé à titre d’exemple peut consister : à sélectionner une première valeur de masque d’entrée, une première valeur de masque de sortie, et une ou plusieurs valeurs de masque intermédiaires ; sur la base de la première valeur de masque de sortie et des valeurs de masque intermédiaires, à calculer une première valeur de masque de sortie de transformation comprenant au moins deux parties, une concaténation de toutes les parties de la première valeur de masque de sortie de transformation produisant la première valeur de masque de sortie de transformation, et une disjonction exclusive de toutes les parties de la première valeur de masque de sortie de transformation étant égale à la première valeur de masque de sortie ; et à réaliser une première transformation masquée sur la base de la première valeur de masque de sortie de transformation et de la première valeur de masque d’entrée.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)