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1. (WO2016062499) BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAFIE

Pub. No.:    WO/2016/062499    International Application No.:    PCT/EP2015/072334
Publication Date: Fri Apr 29 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Wed Sep 30 01:59:59 CEST 2015
IPC: G03F 7/20
G02B 27/42
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: WOLF, Alexander
GRUNER, Toralf
Title: BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAFIE
Abstract:
Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes mit EUV-Nutzlicht (12) einer EUV-Licht- quelle (2) hat eine optische Baugruppe (13) zur Überführung emittierter EUV-Strahlung der Lichtquelle (2) in einen Zwischenfokus (Z). Die optische Baugruppe (13) hat ein im Strahlengang der EUV-Strahlung (12) angeordnetes Photonensieb (16). Es resultiert eine hinsichtlich ihrer Standfestigkeit bei der Nutzung mit EUV-Lichtquellen verbesserte Beleuchtungsoptik.