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1. (WO2016062466) PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE

Pub. No.:    WO/2016/062466    International Application No.:    PCT/EP2015/071433
Publication Date: Fri Apr 29 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Sat Sep 19 01:59:59 CEST 2015
IPC: G03F 7/20
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: BITTNER, Boris
WABRA, Norbert
SCHNEIDER, Sonja
SCHOEMER, Ricarda
SCHMIDT, Holger
Title: PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE
Abstract:
Eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie weist ein Projektionsobjektiv (18) zur optischen Abbildung eines in einer Objektebene (16) angeordneten Musters in eine Bildebene (36) mittels elektromagnetischer Strahlung mit einer Arbeitswellenlänge λ < 260 nm, wobei das Projektionsobjektiv (18) eine optische Anordnung (20) aufweist, die eine Mehrzahl an optischen Elementen (22, 24) aufweist, die zwischen der Objektebene (16) und der Bildebene (36) angeordnet sind, ein Beleuchtungssystem (14) zur Beleuchtung des Musters in der Objektebene (16), wobei das Beleuchtungssystem (14) in der Objektebene (16) ein Beleuchtungsfeld (44) erzeugt, das in einer ersten Dimension (y) eine erste Abmessung (D1) und in einer zur ersten Dimension (y) senkrechten zweiten Dimension (x) eine zweite Abmessung (D2) aufweist, wobei die erste Abmessung (D1) um einen Faktor von zumindest 1,5 kleiner ist als die zweite Abmessung (D2), und einen Manipulator (60') zur Beeinflussung einer Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung auf, wobei der Manipulator (60') zumindest ein optisches Manipulatorelement (62) mit einer ersten optischen Fläche (64) aufweist, die nahe einer Feldebene des Projektionsobjektivs (18) angeordnet ist. Die erste optische Fläche (64) des Manipulatorelements (62) weist zumindest einen Abschnitt aufweist, der ein Korrekturprofil in Form einer Asphärisierung zur Beeinflussung der Wellenfront aufweist, das in Richtung der ersten Dimension (y) bei gleichbleibender Profilform eine veränderliche mittlere Profilamplitude aufweist, und/oder die erste optische Fläche (64) weist in Richtung der ersten Dimension (y) einen ersten und zumindest einen zweiten Abschnitt aufweist, die jeweils ein Korrekturprofil in Form einer Asphärisierung zur Beeinflussung der Wellenfront aufweisen, wobei sich das Korrekturprofil des zumindest einen zweiten Abschnitts von dem Korrekturprofil des ersten Abschnitts hinsichtlich Profilform und/oder der mittleren Profilamplitude unterscheidet.