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1. (WO2016055330) EUV-LITHOGRAPHIESYSTEM UND BETRIEBSVERFAHREN DAFÜR

Pub. No.:    WO/2016/055330    International Application No.:    PCT/EP2015/072600
Publication Date: Fri Apr 15 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Thu Oct 01 01:59:59 CEST 2015
IPC: G03F 7/20
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: EHM, Dirk Heinrich
SCHMIDT, Stefan-Wolfgang
OSORIO, Edgar
TE SLIGTE, Edwin
ZELLENRATH, Mark
LOGTENBERG, Hella
Title: EUV-LITHOGRAPHIESYSTEM UND BETRIEBSVERFAHREN DAFÜR
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein EUV-Lithographiesystem (1), umfassend: mindestens ein optisches Element (13, 14) mit einer optischen Oberfläche (13a, 14a), die in einer Vakuum-Umgebung (17) des EUV-Lithographiesystems (1) angeordnet ist, sowie eine Zuführungseinrichtung (27) zur Zuführung von Wasserstoff in die Vakuum-Umgebung (17), in der mindestens eine Silizium enthaltende Oberfläche (29a) angeordnet ist. Die Zuführungseinrichtung (27) ist zur zusätzlichen Zuführung eines Sauerstoff enthaltenden Gases in die Vakuum- Umgebung (17) ausgebildet und weist eine Dosiereinrichtung (28) zur Einstellung eines Sauerstoff-Partialdrucks (P02) an der mindestens einen Silizium enthaltenden Oberfläche (29a) und/oder an der optischen Oberfläche (13a, 14a) auf.