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1. (WO2016055259) OPTISCHES SYSTEM ZUR LITHOGRAFISCHEN STRUKTURERZEUGUNG

Pub. No.:    WO/2016/055259    International Application No.:    PCT/EP2015/071709
Publication Date: Fri Apr 15 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Wed Sep 23 01:59:59 CEST 2015
IPC: G03F 7/20
G03F 9/00
Applicants: CARL ZEISS AG
Inventors: HÜBNER, Philipp
KRAMPERT, Gerhard
RICHTER, Stefan
MAPPES, Timo
Title: OPTISCHES SYSTEM ZUR LITHOGRAFISCHEN STRUKTURERZEUGUNG
Abstract:
Ein optisches System (1) zur lithografischen Strukturerzeugung hat eine Projektionsoptik (8) zur Führung eines strukturerzeugenden Schreiblichtbündels in einen Schreibfokus (9) im Bereich einer Substrat-Oberfläche (10) in einer Substratebene (12). Eine Ablenkeinrichtung (5) dient zur Ablenkung des Schreibfokus (9) des Schreiblichtbündels innerhalb eines Schreib feldes (13) im Bereich der Substrat- Oberfläche (10). Eine Vorschauoptik (14) dient zur Abbildung eines Vorschaufeldes (15) im Bereich der Substrat-Oberfläche (10). Das Vorschaufeld (15) hat eine Fläche, die um mindestens einen Faktor 10 größer ist als eine Fläche des Schreibfeldes (13). Die Projektionsoptik (8) und die Vorschauoptik (14) werden von einem gemeinsamen Rahmen (16) getragen. Ein Substrathalter (18) ist in einer Ebene (xy) parallel zur Substrat-Oberfläche (10) in zwei Translationsfreiheitsgraden (x, y) verlagerbar. Weiterhin hat das System (1) eine Steuereinheit (27) mit einem Speicher (28), in dem Relativkoordinaten einer Lage des Schreibfeldes (13) relativ zur Lage des Vorschaufeldes (15) abgelegt sind. Es resultiert ein optisches System, bei dem eine Positionierung eines Substrats, welches bei der lithografischen Strukturerzeugung bearbeitet wird, mit guter Zielgenauigkeit erreicht wird.