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1. (WO2016012425) ABBILDENDE OPTIK FÜR EIN METROLOGIESYSTEM ZUR UNTERSUCHUNG EINER LITHOGRAPHIEMASKE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2016/012425    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2015/066604
Veröffentlichungsdatum: 28.01.2016 Internationales Anmeldedatum: 21.07.2015
IPC:
G02B 17/08 (2006.01), G02B 5/00 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Erfinder: RUOFF, Johannes; (DE).
MÜLLER, Ralf; (DE).
BEDER, Susanne; (DE).
MATEJKA, Ulrich; (DE).
MANN, Hans-Jürgen; (DE).
NEUMANN, Jens Timo; (DE)
Vertreter: RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg (DE)
Prioritätsdaten:
10 2014 214 257.1 22.07.2014 DE
10 2014 217 229.2 28.08.2014 DE
Titel (DE) ABBILDENDE OPTIK FÜR EIN METROLOGIESYSTEM ZUR UNTERSUCHUNG EINER LITHOGRAPHIEMASKE
(EN) IMAGING OPTICAL SYSTEM FOR A METROLOGY SYSTEM FOR ANALYZING A LITHOGRAPHY MASK
(FR) OPTIQUE DE REPRODUCTION POUR SYSTÈME MÉTÉOROLOGIQUE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Eine abbildende Optik (40) dient innerhalb eines Metrologiesystems zur Untersuchung einer Lithographiemaske. Die Lithographiemaske ist in einem Objektfeld (3) der abbildenden Optik anordenbar. Das Objektfeld (3) ist durch zwei aufeinander senkrecht stehende Objektfeld-Koordinaten (x, y) aufgespannt. Die abbildende Optik (40) hat eine Aperturblende (42), deren Aspektverhältnis in Richtung der beiden Objektfeld-Koordinaten sich von 1 unterscheidet. Es resultiert eine abbildende Optik, die für die Untersuchung von Lithographiemasken, die für die Projektionsbelichtung mit anamorphotischer Projektionsoptik ausgelegt sind, genutzt werden kann.
(EN)The invention relates to an imaging optical system (40) which is used to analyze a lithography mask within a metrology system. Said lithography mask can be arranged in an object field (3) of the imaging optical system. Said object field (3) is defined by two object field coordinates (x, y) which are mutually perpendicular. The imaging optical system (40) comprises an aperture diaphragm (42), the aspect ratio thereof in the direction of both object field coordinates is different by 1. As a result, an imaging optical system which can be used to analyze lithography masks which are designed for projection lithography by means of an anamorphotic projection optical system is obtained.
(FR)L'invention concerne une optique de reproduction (40) servant à analyser un masque de lithographie dans un système météorologique. Le masque de lithographie peut être agencé dans un champ d'objet (3) de l'optique de reproduction. Le champ d'objet (3) est défini par deux coordonnées (x, y) du champ d'objet perpendiculaires l'une par rapport à l'autre. L'optique de reproduction (40) présente un diaphragme d'ouverture (42) dont le rapport d'aspect dans la direction des deux coordonnées du champ d'objet est différent de 1. On obtient ainsi une optique de reproduction qui peut être utilisée pour l'analyse de masques de lithographie conçus pour l'exposition par projection au moyen d'une optique de projection anamorphotique.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)