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1. (WO2015197262) MEMS-MIKROFON MIT VERBESSERTER EMPFINDLICHKEIT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2015/197262 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2015/060885
Veröffentlichungsdatum: 30.12.2015 Internationales Anmeldedatum: 18.05.2015
IPC:
H04R 19/00 (2006.01) ,H04R 31/00 (2006.01)
H Elektrotechnik
04
Elektrische Nachrichtentechnik
R
Lautsprecher, Mikrofone, Schallplatten-Tonabnehmer oder ähnliche akustische, elektromechanische Wandler; Hörhilfen für Schwerhörige; Großlautsprecheranlagen
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Elektrostatische Umformer
H Elektrotechnik
04
Elektrische Nachrichtentechnik
R
Lautsprecher, Mikrofone, Schallplatten-Tonabnehmer oder ähnliche akustische, elektromechanische Wandler; Hörhilfen für Schwerhörige; Großlautsprecheranlagen
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Geräte oder Verfahren, die in besonderer Weise für das Herstellen von Umformern oder von deren Membranen ausgebildet sind
Anmelder:
EPCOS AG [DE/DE]; St.-Martin-Straße 53 81669 München, DE
Erfinder:
ROMBACH, Pirmin Hermann Otto; DK
Vertreter:
EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Zusammenschluss NR. 175 Schloßschmidstr. 5 80639 München, DE
Prioritätsdaten:
10 2014 108 740.223.06.2014DE
Titel (EN) MEMS MICROPHONE HAVING IMPROVED SENSITIVITY AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
(FR) MICROPHONE MEMS À SENSIBILITÉ AMÉLIORÉE ET PROCÉDÉ POUR LE PRODUIRE
(DE) MEMS-MIKROFON MIT VERBESSERTER EMPFINDLICHKEIT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to improved microphones and methods for the production thereof, said microphones being characterized by sacrificial layers displaying locally different etching rates.
(FR) L'invention concerne des microphones améliorés et des procédés pour les produire, qui se composent de couches sacrificielles présentant des taux de microdécapage localement différents.
(DE) Es werden verbesserte Mikrofone und Verfahren zu deren Herstellung angegeben, die auf Opferschichten mit lokal unterschiedlichen Ätzraten basieren.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)