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1. (WO2015197122) VERFAHREN ZUR AUFBRINGUNG EINER SILIZIUMDIOXIDSCHICHT
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/197122    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2014/063537
Veröffentlichungsdatum: 30.12.2015 Internationales Anmeldedatum: 26.06.2014
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    06.05.2015    
IPC:
C09D 183/02 (2006.01), C08J 7/04 (2006.01), D21H 27/10 (2006.01), D21H 27/32 (2006.01), D21H 27/40 (2006.01)
Anmelder: EV GROUP E. THALLNER GMBH [AT/AT]; DI Erich Thallner Straße 1 A-4782 St. Florian am Inn (AT)
Erfinder: BURGGRAF, Jürgen; (AT)
Vertreter: BECKER & MÜLLER PATENTANWÄLTE; Turmstraße 22 40878 Ratingen (DE)
Prioritätsdaten:
Titel (DE) VERFAHREN ZUR AUFBRINGUNG EINER SILIZIUMDIOXIDSCHICHT
(EN) METHOD FOR APPLYING A SILICON DIOXIDE LAYER
(FR) PROCÉDÉ D'APPLICATION D'UNE COUCHE DE SILICE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Aufbringung einer Siliziumdioxidschicht (3, 3') auf ein brennbares und/oder, insbesondere leicht, entflammbares Trägermaterial (2, 2') zur Ausbildung einer, insbesondere für Lebensmittel geeigneten, Verpackung (1, 1') mit folgenden Schritten, insbesondere mit folgendem Ablauf: Beschichten des Trägermaterials (2, 2') mit einer durch Lösen eines, insbesondere oligomerischen, Silikats, vorzugsweise eines Kieselsäuretetramethylester-Homopolymers, in einem Lösungsmittel hergestellten Siliziumdioxid-Precursor-Lösung mit einem Wassergehalt <5 Vol-% und Aushärten der Siliziumdioxid-Precursor-Lösung und dadurch Ausbildung der Siliziumdioxidschicht (3, 3') auf dem Trägermaterial (2, 2') in einer zumindest teilweise dampfförmigen Ammoniak-Atmosphäre bei : c) einer Temperatur zwischen 5 °C und 30°C und/oder d) einem Druck zwischen 900 MPa und 1200 MPa.
(EN)The present invention relates to a method for applying a silicon dioxide layer (3, 3') onto a flammable and/or, in particular, easily flammable carrier material (2, 2') for forming packaging (1, 1') suitable in particular for foodstuffs, comprising the following steps, in particular the following process: coating of the carrier material (2, 2') with a silicon dioxide precursor solution, which is prepared in a solvent by dissolving a silicate, in particular an oligomeric silicate, preferably a silicic acid tetramethyl ester homopolymer, having a water content < 5 vol. %, and hardening of the silicon dioxide precursor solution, and thereby forming the silicon dioxide layer (3, 3') on the carrier material (2, 2') in an at least partially vaporous ammonia atmosphere at: c) a temperature of between 5 °C and 30 °C and/or d) a pressure of between 900 MPa and 1200 MPa.
(FR)L'invention concerne un procédé d'application d'une couche de silice (3, 3') sur un matériau support combustible et/ou très inflammable (2, 2') afin de fabriquer un emballage (1, 1') particulièrement destiné aux aliments, comportant les étapes suivantes consistant à : revêtir le matériau support (2, 2') avec une solution de précurseur de silice présentant une teneur en eau < 5 % en vol., préparée par dissolution d'un silicate notamment oligomère, de préférence d'un homopolymère de tétraméthylester d'acide silicique, dans un solvant, durcir la solution de précurseur de silice et créer ainsi la couche de silice (3, 3') sur le matériau support (2, 2') dans une atmosphère d'ammoniac au moins partiellement à l'état de vapeur, à une température comprise entre 5 °C et 30 °C et/ou une pression comprise entre 900 MPa et 1200 MPa.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)