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1. (WO2015185357) OPTISCHES SYSTEM, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/185357    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2015/061081
Veröffentlichungsdatum: 10.12.2015 Internationales Anmeldedatum: 20.05.2015
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
SCHICKETANZ, Thomas [DE/DE]; (DE) (US only).
GRUNER, Toralf [DE/DE]; (DE) (US only).
SCHWAB, Markus [DE/DE]; (DE) (US only)
Erfinder: SCHICKETANZ, Thomas; (DE).
GRUNER, Toralf; (DE).
SCHWAB, Markus; (DE)
Vertreter: FRANK, Hartmut; (DE)
Prioritätsdaten:
10 2014 210 609.5 04.06.2014 DE
Titel (DE) OPTISCHES SYSTEM, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM
(FR) SYSTÈME OPTIQUE EN PARTICULIER POUR UN APPAREIL D'ÉCLAIRAGE PAR PROJECTION MICRO-LITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem Spiegel, wobei der Spiegel (M2, 40) in dem optischen System derart angeordnet ist, dass die im Betrieb des optischen Systems bei Reflexion elektromagnetischer Strahlung an dem Spiegel auftretenden, auf die jeweilige Oberflächennormale bezogenen Reflexionswinkel wenigstens 50° betragen, und wobei der Spiegel aus wenigstens zwei Segmenten (41, 42) zusammengesetzt ist, zwischen denen auf dem optischen Element wenigstens eine Segmentgrenze (45) vorhanden ist.
(EN)The invention relates to an optical system, in particular for a microlithographic projection exposure system, comprising at least one mirror, said mirror (M2, 40) being arranged in the optical system in such a manner that the reflection angles produced upon reflection of electromagnetic radiation on the mirror when the optical system is in operation and relating to the respective normal surface are at least 50°, and the mirror is made up of at least two segments (41, 42), between which at least one segment border (45) is provided on the optical element.
(FR)L'invention concerne un système optique, destiné en particulier à un appareil d'éclairage par projection micro-lithographique, comportant au moins un miroir, ledit miroir (M2, 40) étant disposé dans le système optique de telle sorte que les angles de réflexion, se produisant pendant le fonctionnement du système optique lors du réflexion d'un rayonnement électromagnétique sur le miroir, par rapport à la normale à la surface respective sont au moins de 50°, et le miroir se composant d'au moins deux segments (41, 42) entre lesquels au moins une limite de segment (45) est présente sur l'élément optique.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)