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1. (WO2015185317) PROZESSKAMMER, PROZESSKAMMERANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM PROZESSIEREN EINES ODER MEHRERER SUBSTRATE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/185317    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2015/060041
Veröffentlichungsdatum: 10.12.2015 Internationales Anmeldedatum: 07.05.2015
IPC:
H01L 21/68 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: VON ARDENNE GMBH [DE/DE]; Plattleite 19/29 01324 Dresden (DE)
Erfinder: KÜCHLER, Andreas; (DE).
BURGHART, Markus; (DE)
Vertreter: VIERING, JENTSCHURA & PARTNER; Am Brauhaus 8 01099 Dresden (DE)
Prioritätsdaten:
10 2014 107 912.4 05.06.2014 DE
Titel (DE) PROZESSKAMMER, PROZESSKAMMERANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM PROZESSIEREN EINES ODER MEHRERER SUBSTRATE
(EN) PROCESS CHAMBER, PROCESS CHAMBER ARRANGEMENT AND METHOD FOR PROCESSING ONE OR MORE SUBSTRATES
(FR) CHAMBRE DE TRAITEMENT, SYSTÈME DE CHAMBRE DE TRAITEMENT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN OU DE PLUSIEURS SUBSTRATS
Zusammenfassung: front page image
(DE)Eine Prozesskammer (1) kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen aufweisen: eine Substrat-Haltestruktur (3) zum Halten eines zu prozessierenden Substrats (5) in der Prozesskammer und eine in der Prozesskammer angeordnete, gemeinsame Masken-Haltestruktur (7) zum gleichzeitigen Halten von mehreren Masken (9) in der Prozesskammer, wobei die Substrat-Haltestruktur (3) und die gemeinsame Masken-Haltestruktur (7) derart eingerichtet sind, dass das von der Substrat-Haltestruktur zu haltende Substrat 5 und die Masken-Haltestruktur (7) innerhalb der Prozesskammer (1) relativ zueinander in verschiedene Masken-Substrat-Prozessierausrichtpositionen bewegbar sind, wobei in einer jeweiligen der verschiedenen Masken-Substrat- Prozessierausrichtpositionen eine andere der von der Masken-Haltestruktur zu haltenden Masken (9) mit dem von der Substrat-Haltestruktur zu haltenden Substrat (5) zum Prozessieren desselben innerhalb der Prozesskammer in der jeweiligen Masken-Substrat-Prozessierausrichtposition mittels der jeweiligen von der Masken-Haltestruktur zu haltenden Maske ausgerichtet ist.
(EN)According to various embodiments, a process chamber (1) can comprise the following: a substrate-holding structure (3) for holding a substrate (5) to be processed in the process chamber, and a common mask-holding structure (7), arranged in the process chamber, for simultaneously holding a plurality of masks (9) in the process chamber, wherein the substrate-holding structure (3) and the common mask-holding structure (7) are arranged in such a manner that the substrate (5) to be held by the substrate-holding structure and the mask-holding structure (7) are movable in relation to one another into various mask/substrate-processing alignment positions inside the process chamber (1), wherein, in a respective one of the various mask/substrate-processing alignment positions, another of the masks (9) to be held by the mask-holding structure is aligned with the substrate (5) to be held by the substrate-holding structure for the processing thereof, inside the process chamber, in the respective mask/substrate-processing alignment position by means of the respective mask to be held by the mask-holding structure.
(FR)L'invention concerne une chambre de traitement (1) pouvant comprendre selon différents modes de réalisation : une structure de retenue de substrat (3) servant à retenir un substrat (5) à traiter dans la chambre de traitement et une structure de retenue de masque (7) commune disposée dans la chambre de traitement et servant à retenir simultanément plusieurs masques (9) dans la chambre de traitement. La structure de retenue de substrat (3) et la structure de retenue de masque (7) commune sont conçues de telle manière que le substrat (5) destiné à être retenu par la structure de retenue de substrat et la structure de retenue de masque (7) peuvent être déplacés à l'intérieur de la chambre de traitement (1) l'une par rapport à l'autre dans différentes positions d'orientation de traitement substrat-masque. Dans une position respective parmi les différentes positions d'orientation de traitement substrat-masque, un autre des masques (9) destiné à être retenu par la structure de retenue de masque est orienté en même temps que le substrat (5) destiné à être retenu par la structure de retenue de substrat pour le traitement de ce dernier à l'intérieur de la chambre de traitement dans la position respective d'orientation de traitement substrat-masque au moyen du masque respectif destiné à être retenu par la structure de retenue de masque.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)