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1. WO2015135966 - OPTISCHES BAUELEMENT

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Veröffentlichungsnummer WO/2015/135966
Veröffentlichungsdatum 17.09.2015
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2015/055017
Internationales Anmeldedatum 11.03.2015
IPC
G03F 7/20 2006.01
GSektion G Physik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
CPC
G02B 26/0833
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
26Optical devices or arrangements using movable or deformable optical elements for controlling the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light, e.g. switching, gating, modulating
08for controlling the direction of light
0816by means of one or more reflecting elements
0833the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
G02B 27/0068
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
0025for optical correction, e.g. distorsion, aberration
0068having means for controlling the degree of correction, e.g. using phase modulators, movable elements
G02B 5/0891
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0891Ultraviolet [UV] mirrors
G02B 5/09
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
09Multifaceted or polygonal mirrors ; , e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
G03F 7/70091
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane, angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole, quadrupole; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
G03F 7/70116
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane, angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole, quadrupole; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
70116Off-axis setting using a programmable means, e.g. LCD or DMD
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • PATRA, Michael
  • DEGÜNTHER, Markus
  • BÜTTNER, Paul
  • HEINTEL, Willi
  • BAITINGER, Henner
Vertreter
  • RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB
Prioritätsdaten
10 2014 204 818.414.03.2014DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) OPTISCHES BAUELEMENT
(EN) OPTICAL COMPONENT
(FR) COMPOSANT OPTIQUE
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Zusammenfassung
(DE)
Ein optisches Bauelement (23) für eine Projektionsbelichtungsanlage umfasst eine Vielzahl von variabel positionierbaren strahlführenden Elementen (24), welche als Pupillenfacetten dienen. Das optische Bauelement (23) kann im Strahlengang der Projektionsoptik angeordnet sein.
(EN)
An optical component (23) for a projection lighting system comprises a plurality of variably positionable beam-guiding elements (24) acting as pupil facets. The optical component (23) can be placed in the beam path of the projection optical device.
(FR)
L'invention concerne un composant optique (23) pour une installation d'éclairage par projection. Ledit composant optique comprend une pluralité d'éléments (24) conduisant des rayons, à position variable. Les éléments font office de facettes de pupilles. Le composant optique (23) peut être disposé dans la trajectoire des rayons de l'optique de projection.
Auch veröffentlicht als
DE102014204818
JP2017509922
US20160370707
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten
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