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1. (WO2015078776) BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAPHIE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/078776    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2014/075257
Veröffentlichungsdatum: 04.06.2015 Internationales Anmeldedatum: 21.11.2014
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Erfinder: PATRA, Michael; (DE).
MÜLLER, Ralf; (DE)
Vertreter: RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg (DE)
Prioritätsdaten:
10 2013 223 935.1 22.11.2013 DE
Titel (DE) BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAPHIE
(EN) ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV PROJECTION LITHOGRAPHY
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE POUR LA LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION EUV
Zusammenfassung: front page image
(DE)Ein Beleuchtungssystem für die EUV-Projektionslithographie hat eine Strahlformungsoptik (6) zur Erzeugung eines EUV-Sammel-Ausgabestrahls (7) aus einem EUV-Rohstrahl (4) einer synchrotronstrahlungsbasierten Lichtquelle (2). Eine Auskoppeloptik (8) dient zur Erzeugung mehrerer EUV-Einzel-Ausgabestrahlen (9i) aus dem EUV-Sammel-Ausgabestrahl (7). Jeweils eine Strahlführungsoptik (10) dient zur Führung des jeweiligen EUV-Einzel-Ausgabestrahls (9i) hin zu einem Objektfeld (11), in dem eine Lithographiemaske (12) anordenbar ist. Es resultiert ein Beleuchtungssystem mit einer möglichst verlustfreien und gleichzeitig flexiblen Führung von EUV-Licht einer synchrotronstrahlungsbasierten Lichtquelle.
(EN)The invention relates to an illumination system for EUV projection lithography, comprising a beam shaping optics (6) for generating a EUV collecting output beam (7) from an EUV raw beam (4) of a synchrotron-radiation-based light source (2). A decoupling optics (8) is used for generating multiple EUV individual output beams (9i) from the EUV-collecting output beam (7). A beam guiding optics (10) is used in each case to guide the respective EUV individual output beam (9i) towards an object field (11), in which a lithography mask (12) can be arranged. The result is an illumination system with a highly loss-free and at the same time flexible guide of EUV light of a synchrotron-radiation-based light source.
(FR)L'invention concerne un système d'éclairage pour la lithographie par projection EUV, présentant une optique de formation de faisceau (6) destinée à générer un faisceau collecté de sortie EUV (7) à partir d'un rayon EUV brut (4) d'une source lumineuse (2) basée sur un rayonnement synchrotron. Une optique de découplage (8) sert à générer plusieurs faisceaux individuels de sortie EUV (9i) à partir du faisceau collecté de sortie EUV (7). Une optique de guidage du faisceau (10) sert à chaque fois à guider chaque faisceau individuel de sortie EUV (9i) vers un champ d'objet (11), dans lequel un masque de lithographie (12) peut être disposé. On obtient un système d'éclairage permettant un guidage si possible sans perte et en même temps souple de la lumière EUV d'une source lumineuse basée sur un rayonnement synchrotron.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)