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1. (WO2015071322) IMPLANTAT MIT ERHÖHTER NEGATIVER OBERFLÄCHENLADUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/071322    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2014/074390
Veröffentlichungsdatum: 21.05.2015 Internationales Anmeldedatum: 12.11.2014
IPC:
A61L 31/02 (2006.01), A61L 31/14 (2006.01)
Anmelder: QVANTEQ AG [CH/CH]; Technoparkstrasse 1 CH-8005 Zürich (CH)
Erfinder: ZUCKER, Arik; (CH).
BUZZI, Stefano; (CH).
MÄDER, Armin, W.; (CH).
MILLERET, Vincent; (CH).
EHRBAR, Martin; (CH).
ZIOGAS, Algirdas; (CH)
Vertreter: BOVARD AG; Optingenstrasse 16 CH-3000 Bern 25 (CH)
Prioritätsdaten:
01903/13 14.11.2013 CH
Titel (DE) IMPLANTAT MIT ERHÖHTER NEGATIVER OBERFLÄCHENLADUNG
(EN) IMPLANT HAVING AN INCREASED NEGATIVE SURFACE CHARGE
(FR) IMPLANT À CHARGE SUPERFICIELLE NÉGATIVE ÉLEVÉE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Es wird ein Implantat zur Implantation in einen Körper mit einer Oberfläche vorgesehen, die in implantiertem Zustand für einen Kontakt mit dem Körper oder einem Körperfluid vorgesehen ist und die in einem ersten Zustand eine erste Oberflächenladung aufweist. Die Oberfläche nimmt durch eine Oberflächenbehandlung einen zweiten Zustand mit einer zweiten Oberflächenladung ein, wobei die zweite Oberflächenladung eine niedrigere positive Oberflächenladung oder eine höhere negative Oberflächenladung im Vergleich zur ersten Oberflächenladung aufweist. Das Implantat wird zur Regulierung einer Adsorption von Proteinen auf der Oberfläche des Implantats in Bezug auf Art, Menge und/oder Konformation bestimmter Proteine durch einen definierten zweiten Zustand der Oberfläche, der eine definierte zweite Oberflächenladung und/oder eine definierte vorbestimmte Zusammensetzung einer Oxidschicht der Oberfläche aufweist, verwendet.
(EN)The invention relates to an implant for implantation into a body. The implant comprises a surface that is provided for contact with the body or a body fluid when implanted and which surface has a first surface charge when in a first state. The surface assumes a second state having a second surface charge as a result of surface treatment, the second surface charge having a lower positive surface charge or a higher negative surface charge than the first surface charge. The implant is used for regulating an adsorption of proteins on the surface of the implant in terms of type, quantity and/or conformation of certain proteins by means of a defined second state of the surface, which has a defined second surface charge and/or a defined predetermined composition of an oxide layer of the surface.
(FR)L'invention concerne un implant, destiné à être implanté dans un corps, qui possède une surface appelée à être en contact, dans l'état implanté, avec le corps ou avec un fluide corporel et qui présente dans un premier état une première charge superficielle. Un traitement de surface confère à ladite surface un deuxième état avec une deuxième charge superficielle qui est une charge superficielle positive inférieure ou une charge superficielle négative supérieure comparée à la première charge superficielle. L'implant est utilisé pour réguler une adsorption de protéines sur la surface de l'implant en termes de type, de quantité et/ou de conformation de certaines protéines par un deuxième état défini de la surface qui présente une deuxième charge superficielle définie et/ou une composition prédéterminée définie d'une couche d'oxyde de la surface.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)