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1. (WO2015071218) VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR SYMMETRISIERUNG EINES POYNTING-FEHLERS EINES AUS MINDESTENS ZWEI STRAHLENBÜNDELN DURCH STRAHLUMLENKUNG ZUSAMMENGESETZTEN LASERSTRAHLS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/071218    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2014/074164
Veröffentlichungsdatum: 21.05.2015 Internationales Anmeldedatum: 10.11.2014
IPC:
G02B 19/00 (2006.01), B23K 26/06 (2014.01), G02B 27/09 (2006.01), H01S 5/40 (2006.01)
Anmelder: LIMO PATENTVERWALTUNG GMBH & CO. KG [DE/DE]; Bookenburgweg 4-8 44319 Dortmund (DE)
Erfinder: MITRA, Thomas; (DE)
Vertreter: FRITZ PATENT- UND RECHTSANWÄLTE PARTNERSCHAFT MBB; Postfach 15 80 59705 Arnsberg (DE)
Prioritätsdaten:
10 2013 112 502.6 13.11.2013 DE
Titel (DE) VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR SYMMETRISIERUNG EINES POYNTING-FEHLERS EINES AUS MINDESTENS ZWEI STRAHLENBÜNDELN DURCH STRAHLUMLENKUNG ZUSAMMENGESETZTEN LASERSTRAHLS
(EN) METHOD AND ARRANGEMENT FOR SYMMETRIZING OF A POYNTING ERROR OF A LASER BEAM COMPOSED OF AT LEAST TWO BEAM BUNDLES BY BEAM DEFLECTION
(FR) PROCÉDÉ ET AGENCEMENT DE SYMÉTRISATION D'UN DÉFAUT DE POYNTING D'UN RAYON LASER COMPOSÉ PAR DÉVIATION DE RAYONS À PARTIR D'AU MOINS DEUX FAISCEAUX DE RAYONS
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zur Symmetrisierung eines Poynting-Fehlers eines aus mindestens zwei kollimierten Strahlenbündeln (20, 21), die von zwei Laserlichtquellen, insbesondere von zwei Laserdiodenbarren (10, 11), emittiert werden und sich in entgegengesetzten Ausbreitungsrichtungen ausbreiten, durch Strahlumlenkung zusammengesetzten Laserstrahls (50), bei denen das Strahlenbündel (20, 21) einer der beiden Laserlichtquellen von einer optischen Strahldrehungsvorrichtung (60) um 180° um die optische Achse (O1, O2) eines dieser Laserlichtquelle zugeordneten Kollimationslinsenmittels (30, 31) gedreht wird, bevor die geometrische Umlenkung durch ein Strahlumlenkmittel (40, 41) erfolgt.
(EN)The present invention relates to a method and to an arrangement for symmetrizing a Poynting error of a laser beam (50) which is composed of at least two collimated beam bundles (20, 21) which are emitted by two laser light sources, in particular by two laser diode bars (10, 11) and propagate in opposite propagation directions, by beam deflection, in which method and arrangement the beam bundle (20, 21) of one of the two laser light sources is rotated by an optical beam rotation device (60) through 180° about the optical axis (O1, O2) of a collimation lens means (30, 31) assigned to this laser light source, before the geometrical deflection is carried out by a beam deflection means (40, 41).
(FR)L'invention concerne un procédé et un agencement de symétrisation d'un défaut de Poynting d'un rayon laser (50) composé par déviation de rayons à partir d'au moins deux faisceaux de rayons collimatés (20, 21) qui sont émis par deux sources de lumière laser, en particulier deux barres de diodes laser (10, 11), et qui se propagent dans des directions de propagation opposées. Le faisceau de rayons (20, 21) d'une des deux sources de lumière laser est pivoté par un dispositif optique de pivotement de faisceau (60) de 180° autour de l'axe optique (O1, O2) d'un moyen de collimation associé à cette source de lumière laser, avant que la déviation géométrique ne soit effectuée par un moyen de déviation de rayons (40, 41).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)