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1. (WO2015070931) WÄSSRIGE BESCHICHTUNGSZUSAMMENSETZUNG ZUR TAUCHLACK-BESCHICHTUNG ELEKTRISCH LEITFÄHIGER SUBSTRATE ENTHALTEND BISMUT IN GELÖST VORLIEGENDER FORM
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/070931    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2013/074104
Veröffentlichungsdatum: 21.05.2015 Internationales Anmeldedatum: 18.11.2013
IPC:
C09D 5/44 (2006.01), C25D 3/54 (2006.01), C25D 9/08 (2006.01)
Anmelder: BASF COATINGS GMBH [DE/DE]; Glasuritstrasse 1 48165 Münster (DE).
HENKEL AG & CO. KGAA [DE/DE]; Henkelstraße 67 40589 Düsseldorf (DE) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only)
Erfinder: WAPNER, Kristof; (DE).
GASPAR, Florian; (DE).
HAMMER, Christian; (DE)
Vertreter: LEIFERT & STEFFAN; Postfach 10 40 09 40031 Düsseldorf (DE)
Prioritätsdaten:
Titel (DE) WÄSSRIGE BESCHICHTUNGSZUSAMMENSETZUNG ZUR TAUCHLACK-BESCHICHTUNG ELEKTRISCH LEITFÄHIGER SUBSTRATE ENTHALTEND BISMUT IN GELÖST VORLIEGENDER FORM
(EN) AQUEOUS COATING COMPOSITION FOR THE DIPCOATING OF ELECTRICALLY CONDUCTIVE SUBSTRATES CONTAINING BISMUTH IN DISSOLVED FORM
(FR) COMPOSITION DE REVÊTEMENT AQUEUSE POUR LA PEINTURE PAR CATAPHORÈSE DE SUBSTRATS ÉLECTRIQUEMENT CONDUCTEURS, CONTENANT DU BISMUTH SOUS FORME DISSOUTE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft eine wässrige Beschichtungszusammensetzung (A) mit einem pH-Wert in einem Bereich von 4,0 bis 6,5 umfassend wenigstens ein kathodisch abscheidbares Bindemittel (A1), eine Gesamtmenge von wenigstens 130 ppm Bi, bezogen auf das Gesamtgewicht von (A), wobei davon wenigstens 30 ppm Bi in einer in (A) gelöst vorliegenden Form (A3) und gegebenenfalls wenigstens 100 ppm Bi in einer in (A) ungelöst vorliegenden Form (A4) vorhanden sind, und wenigstens ein zur Komplexierung von Bi geeignetes wenigstens zweizähniges Komplexierungsmittel (A5), wobei (A5) eine Verbindung der allgemeinen Formel (1) oder ein Anion dieser Verbindung ist, zur zumindest teilweisen Beschichtung eines elektrisch leitfähigen Substrats mit einem Elektrotauchlack, ein Verfahren zur Herstellung von (A), die Verwendung von (A) zur zumindest teilweisen Beschichtung eines elektrisch leitfähigen Substrats mit einem Elektrotauchlack, ein entsprechendes Beschichtungsverfahren, ein gemäß diesem Verfahren erhältliches zumindest teilweise beschichtetes Substrat sowie ein Verfahren zur Einstellung und/oder Aufrechterhaltung der Konzentration der Komponente (A3) und/oder gegebenenfalls (A4) in der Beschichtungszusammensetzung (A) während des Beschichtungsverfahrens.
(EN)The present invention relates to an aqueous coating composition (A) with pH in the range from 4.0 to 6.5 comprising at least one binder (A1) amenable to cathodic deposition, a total quantity of at least 130 ppm of Bi, in relation to the total weight of (A), whereof at least 30 ppm of Bi are present in a form (A3) dissolved in (A) and optionally at least 100 ppm of Bi are present in a form (A4) not dissolved in (A), and at least one at least bidentate complexing agent (A5) suitable for the complexing of Bi, where (A5) is a compound of the general formula (1) or an anion of said compound, for the at least partial coating of an electrically conductive substrate with an electrodeposition coating, a process for producing (A), the use of (A) for the least partial coating of an electrically conductive substrate with an electrodeposition coating, a corresponding coating process, an at least partially coated substrate obtainable by said process, and a process for establishing and/or maintaining the concentration of the component (A3) and/or optionally (A4) in the coating composition (A) during the coating process.
(FR)La présente invention concerne une composition de revêtement aqueuse (A) qui possède un pH dans la plage de 4,0 à 6,5 et qui comprend : au moins un liant (A1) apte au dépôt cathodique; une quantité totale au moins égale à 130 ppm de Bi, rapportée au poids total de (A), au moins 30 ppm de Bi étant présents sous une forme (A3) dissoute dans (A) et, le cas échéant, au moins 100 ppm de Bi étant présents sous une forme (A4) non dissoute dans (A); et au moins un agent complexant (A5) au moins bidentate apte à complexer le Bi, (A5) étant un composé de formule générale (1) ou un anion de ce composé. Ladite composition sert à revêtir au moins en partie un substrat électriquement conducteur par électrodéposition. L'invention concerne en outre un procédé de préparation de (A), l'utilisation de (A) pour revêtir au moins en partie un substrat électriquement conducteur par électrodéposition de peinture, un procédé de revêtement correspondant, un substrat revêtu au moins en partie qui peut être obtenu par ce procédé, ainsi qu'un procédé d'ajustement et/ou de maintien de la concentration du composant (A3) et/ou le cas échéant du composant (A4) dans la composition de revêtement (A) au cours dudit procédé de revêtement.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)