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1. (WO2015063064) VERBUND UMFASSEND EIN SUBSTRAT UND EINEN PHOTOPOLYMERFILM
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/063064    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2014/073080
Veröffentlichungsdatum: 07.05.2015 Internationales Anmeldedatum: 28.10.2014
IPC:
G11B 7/245 (2006.01), G11B 7/2535 (2013.01)
Anmelder: COVESTRO DEUTSCHLAND AG [DE/DE]; Kaiser-Wilhelm-Allee 60 51373 Leverkusen (DE)
Erfinder: WEISER, Marc-Stephan; (DE).
BERNETH, Horst; (DE).
BRUDER, Friedrich-Karl; (DE).
RÖLLE, Thomas; (DE).
HÖNEL, Dennis; (DE).
FÄCKE, Thomas; (DE)
Vertreter: LEVPAT; c/o Covestro AG Alfred-Nobel-Str. 10 40789 Monheim am Rhein (DE)
Prioritätsdaten:
13190911.1 30.10.2013 EP
Titel (DE) VERBUND UMFASSEND EIN SUBSTRAT UND EINEN PHOTOPOLYMERFILM
(EN) COMPOSITE COMPRISING A SUBSTRATE AND A PHOTOPOLYMER FILM
(FR) COMPOSITE COMPRENANT UN SUBSTRAT ET UN FILM PHOTOPOLYMÈRE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft einen Verbund umfassend ein Substrat und einen Photopolymerfilm, die zumindest abschnittsweise lösbar miteinander verbunden sind, wobei das Substrat Polyethylenterephthalat und der Photopolymerfilm dreidimensional vernetzte Polyurethanmatrixpolymere, ein Schreibmonomer und einen Photoinitiator enthält, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat nach einer siebentägigen Inkubation bei 23° C in einer 0,5 volumenprozentigen Butylacetat-Lösung des Farbstoffs der Formel (I) Formel (I) einen L-Wert L1 und vor der Inkubation einen L-Wert von L0 aufweist, wobei die L-Werte durch CieLAB-Messungen bestimmt sind und die Differenz der L-Werte L1 und L0 der Formel (II) L1-L0 < -0,25 (Formel II) genügt.
(EN)The invention relates to a composite, comprising a substrate and a photopolymer film, which are detachably connected to each other at least in some sections, the substrate containing polyethylene terephthalate and the photopolymer containing three-dimensionally cross-linked polyurethane matrix polymers, a writing monomer, and a photoinitiator, characterized in that the substrate has an L value L1 after a seven-day incubation at 23°C in a 0.5 volume percent butyl acetate solution of the dye of formula (I) and an L value L0 before the incubation, wherein the L values are determined by means of CieLAB measurements and the difference of L values L1 and L0 satisfies formula (II) L1 - L0 < -0.25 (formula II).
(FR)L'invention concerne un composite comprenant un substrat et un film photopolymère qui sont reliés l'un à l'autre de manière détachable au moins par segments. Le substrat contient du polytéréphtalate d'éthylène et le film photopolymère contient un polymère matrice en polyuréthane réticulé en trois dimensions, un monomère inscriptible et un photoamorceur. L'invention est caractérisée en ce que le substrat présente après incubation pendant sept jours à 23° C dans une solution du colorant de formule (I), formule (I), dans de l'acétate de butyle à 0,5 % en volume une valeur de luminance L1 et avant l'incubation une valeur de luminance L0. Les valeurs de luminance sont déterminées par des mesures CIELAB et la différence entre les valeurs de luminance L1 et L0 satisfait la relation (II) L1-L0 < -0,25 (formule II).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)