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1. (WO2015036225) BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAFIE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/036225    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2014/067960
Veröffentlichungsdatum: 19.03.2015 Internationales Anmeldedatum: 25.08.2014
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Erfinder: PATRA, Michael; (DE)
Vertreter: RAU, SCHNECK & HÜBNERPATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg (DE)
Prioritätsdaten:
10 2013 218 130.2 11.09.2013 DE
Titel (DE) BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAFIE
(EN) ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR EUV MICROLITHOGRAPHY
(FR) OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE POUR LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION DANS L'EXTRÊME ULTRAVIOLET (EUV)
Zusammenfassung: front page image
(DE)Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes (4) mit Beleuchtungslicht einer Lichtquelle (2). Ein erster Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik hat eine Mehrzahl von ersten Facetten (21) zur reflektierenden Führung von Teilbündeln (23) eines Bündels des EUV-Beleuchtungslichts (12). Dem ersten Facettenspiegel ist ein zweiter Facettenspiegel mit einer Mehrzahl von zweiten Facetten (26) zur weiteren reflektierenden Führung der Teilbündel (23) nachgeordnet. Hierdurch sind durch die reflektierende Bündelführung an den beiden Facetten (21, 26) Objektfeld-Ausleuchtungskanäle (22) vorgegeben, über die jeweils das gesamte Objektfeld (4) mit dem Beleuchtungslicht ausleuchtbar ist und denen jeweils genau eine erste Facette (21) und genau eine zweite Facette (26) zugeordnet sind. Der erste Facettenspiegel gehört zu einer Abbildungsoptik, die einer der Anzahl der Objektfeld-Ausleuchtungskanäle (22) entsprechende Mehrzahl von Bildern (14) der Lichtquelle erzeugt. Über die zweiten Facetten (26) werden die ersten Facetten (21) einander überlagernd in das Objektfeld (4) abgebildet. Die Beleuchtungsoptik ist so ausgeführt, dass die zweiten Facetten (26) längs des zugehörigen Objektfeld-Ausleuchtungskanals (22) beabstandet zum zugehörigen Bild (14) der Lichtquelle (2) angeordnet sind. Die Beleuchtungsoptik (3) ist so ausgeführt ist, dass die zweiten Facetten (26) längs des zugehörigen Objektfeld-Ausleuchtungskanals (22) beabstandet zum zugehörigen Bild (14) der Lichtquelle (2) angeordnet sind. Bei einer solchen Beleuchtungsoptik sind Reflexionsverluste an den zweiten Facetten (26) minimiert.
(EN)An illumination optical unit for EUV projection lithography serves to illuminate an illumination field (4) with illumination light from a light source (2). A first facet mirror of the illumination optical unit includes a plurality of first facets (21) for reflecting guidance of sub-beams (23) of a beam of EUV illumination light (12). A second facet mirror comprising a plurality of second facets (26) for further reflecting guidance of the sub-beams (23) is disposed downstream of the first facet mirror. As a result, the reflecting beam guidance at the two facets (21, 26) predetermines object field illumination channels (22), by means of which the whole object field (4) is respectively illuminable with the illumination light and which respectively have assigned exactly one first facet (21) and exactly one second facet (26) thereto. The first facet mirror is part of an imaging optical unit, which generates a plurality of images (14) of the light source, corresponding to the number of the object field illumination channels (22). The first facets (21) are imaged, superposed on one another, in the object field (4) by means of the second facets (26). The illumination optical unit is configured in such a way that the second facets (26) are arranged along the associated object field illumination channel (22) at a distance from the associated image (14) of the light source (2). The illumination optical unit (3) is configured in such a way that the second facets (26) are arranged along the associated object field illumination channel (22) at a distance from the associated image (14) of the light source (2). Reflection losses at the second facets (26) are minimized in such an illumination optical unit.
(FR)L'invention concerne une optique d'éclairage destinée à la lithographie par projection EUV et utilisée pour éclairer une zone d'éclairage (4) avec une lumière d'éclairage d'une source lumineuse (2). Un premier miroir à facettes de l'optique d'éclairage comporte une pluralité de premières facettes (21) servant à guider par réflexion les sous-faisceaux (23) d'un faisceau de lumière d'éclairage EUV (12). En aval du premier miroir à facettes est disposé un second miroir à facettes comportant une pluralité de secondes facettes (26) servant à guider par réflexion les sous-faisceaux (23). Ainsi, selon l'invention le guidage de faisceaux par réflexion sur les deux facettes (21, 26) permettent d'imposer des canaux d'éclairage de champ d'objet (22) par le biais desquels tout le champ d'objet (4) peut être éclairé par la lumière d'éclairage et à chacun desquels sont associées exactement une première facette (21) et exactement une seconde facette (26). Le premier miroir à facettes fait partie d'une optique d'imagerie qui génère une pluralité d'images (14) de la source lumineuse correspondant au nombre de canaux d'éclairage du champ d'objet (22). Les secondes facettes (26) permettent de reproduire les premières facettes (21) par superposition dans le champ d'objet (4). L'optique d'éclairage (3) est conçu de telle sorte que les secondes facettes (26) sont disposées le long du canal d'éclairage de champ d'objet (22) à distance de l'image (14) associée de la source lumineuse (2). Dans un tel système optique d'éclairage, les pertes par réflexion sont minimisées au niveau des secondes facettes (26).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)