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1. (WO2015032584) KLASSIEREN VON POLYSILICIUM
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/032584    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2014/067032
Veröffentlichungsdatum: 12.03.2015 Internationales Anmeldedatum: 07.08.2014
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    05.06.2015    
IPC:
B07B 1/00 (2006.01), B07B 1/46 (2006.01), B07B 1/28 (2006.01), B07B 13/18 (2006.01), C01B 33/02 (2006.01)
Anmelder: WACKER CHEMIE AG [DE/DE]; Hanns-Seidel-Platz 4 81737 München (DE)
Erfinder: SCHNEIDER, Andreas; (DE).
GRUEBL, Peter; (DE).
HAUSWIRTH, Rainer; (DE).
PECH, Reiner; (DE)
Vertreter: KILLINGER, Andreas; (DE)
Prioritätsdaten:
102013218003.9  09.09.2013 DE
Titel (DE) KLASSIEREN VON POLYSILICIUM
(EN) CLASSIFYING OF POLYSILICON
(FR) CLASSIFICATION DE POLYSILICIUM
Zusammenfassung: front page image
(DE)Ein Verfahren zum mechanischen Klassieren von polykristallinem Siliciumbruch oder -granulat mit einer Schwingsiebmaschine, wobei Siliciumbruch oder -granulat sich auf einem oder mehreren Sieben jeweils umfassend einen Siebbelag befinden, die derart in Schwingungen versetzt werden, dass der Siliciumbruch oder das Siliciumgranulat eine Bewegung ausführen, wodurch der Siliciumbruch oder das Siliciumgranulat in verschiedene Größenklassen getrennt werden, wobei eine Siebkennziffer, welche als Verhältnis der durch die Siebbewegung erzeugten Beschleunigung zur Gravitationsbeschleunigung vertikal zur Siebebene definiert ist, und durch die Formel Kv = r * ω2 * sin(α+ β)/(g*cos(ß)), wobei r: Schwingamplitude; ω: Winkelgeschwindigkeit; α: Wurfwinkel; β: Siebneigungswinkel; g: Gravitationskonstante gekennzeichnet ist, größer oder gleich 0,6 und kleiner oder gleich 9,0 beträgt.
(EN)A method for mechanically classifying crushed or granulated polycrystalline silicon with an oscillating screening machine, wherein crushed or granulated silicon is located on one or more screens each comprising a screen lining and made to oscillate in such a way that the crushed silicon or granulated silicon is set in motion, whereby the crushed silicon or granulated silicon is separated into different size classes, wherein a screen index, which is defined as the ratio of the acceleration produced by the oscillating motion to the gravitational acceleration vertically in relation to the plane of the screen and is characterized by the formula Kv = r * ω2 * sin(α + β)/(g*cos(ß)), where r: is the oscillation amplitude; ω: is the angular velocity; α is the throwing angle; β: is the angle of inclination of the screen; and g: is the gravitational constant, is greater than or equal to 0.6 and less than or equal to 9.0.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant la classification mécanique d'un fragment ou d'un granulé polycristallin au moyen d'un tamiseur vibrant. Le fragment ou le granulé de silicium se situe sur un ou plusieurs tamis comprenant chacun une garniture de tamis, lesquelles sont amenées à vibrer de telle manière que le fragment de silicium ou le granulé de silicium exécute un mouvement, le fragment de silicium ou le granulé de silicium étant séparé en différentes catégories de taille. Un coefficient de tamisage, lequel est défini comme le rapport entre l'accélération produite par le mouvement de tamisage et l'accélération gravitationnelle perpendiculairement au plan de tamisage, et lequel est caractérisé par la formule Kv = r * ω2 * sin(α+ β)/(g*cos(ß)), où : r : amplitude des vibrations ; ω : vitesse angulaire ; α : angle de projection ; β : angle d'inclinaison du tamis ; g : constante gravitationnelle, est supérieur ou égal à 0,6 et inférieur ou égal à 9,0.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)