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1. (WO2015027982) KONTAKTELEMENT MIT GOLDBESCHICHTUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2015/027982    Internationale Anmeldenummer    PCT/DE2014/100229
Veröffentlichungsdatum: 05.03.2015 Internationales Anmeldedatum: 04.07.2014
IPC:
C25D 3/62 (2006.01), C25D 5/10 (2006.01), C25D 5/12 (2006.01), C25D 5/18 (2006.01), C25D 5/34 (2006.01), C25D 5/36 (2006.01)
Anmelder: HARTING KGAA [DE/DE]; Marienwerderstraße 3 32339 Espelkamp (DE)
Erfinder: BRODE, Frank; (DE).
MEYEROVICH, Alexander; (DE)
Prioritätsdaten:
10 2013 109 400.7 29.08.2013 DE
Titel (DE) KONTAKTELEMENT MIT GOLDBESCHICHTUNG
(EN) CONTACT ELEMENT WITH GOLD COATING
(FR) ÉLÉMENT DE CONTACT POURVU D'UN REVÊTEMENT À BASE D'OR
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Kontaktelements, wobei die Basis des Kontaktelements von einem metallischen Substrat gebildet wird, dass folgende Verfahrensschritte in der aufgelisteten Reihenfolge durchläuft: a. eine Kalt- und/oder Heiß- und/oder elektrolytische Entfettung des Substrates, b. eine Aktivierung der Oberfläche des Substrates i. in einem Nickel-Strike-Bad oder ii. in einer fluoridhaltigen Aktivierungslösung oder iii. in einer fluoridfreien Aktivierungslösung c. eine galvanische Abscheidung einer Zwischenschicht i. wobei als Zwischenschicht eine galvanisch abgeschiedene Nickelschicht oder ii. eine Nickellegierungsschicht oder iii. eine Kupferlegierungsschicht aufgetragen wird d. eine elektrolytische Abscheidung einer Goldlegierungsschicht in einem Gleich- und/oder Pulsstromverfahren, bei welchem die Stromdichte zwischen 0,3 und 0,6 A/dm2 liegt.
(EN)The invention relates to a method for producing an electric contact element, the base of the contact element being made of a metal substrate which undergoes the following method steps in the listed order: a. a cold and/or hot and/or electrolytic degreasing of the substrate, b. an activation of the surface of the substrate i. in a nickel strike bath or ii. in a fluoride-containing activation solution or iii. in a fluoride-free activation solution, c. a galvanic deposition of an intermediate layer i., wherein a galvanically deposited nickel layer or ii. a nickel alloy layer, or iii. a copper alloy layer is applied as the intermediate layer, and d. an electrolytic deposition of a gold alloy layer in a direct and/or pulse current method in which the current density ranges from 0.3 to 0.6 A/dm2.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément de contact électrique, la base de l'élément de contact étant formée par un substrat métallique, qui consiste à exécuter les étapes de procédé suivantes dans l'ordre énuméré : a. un dégraissage à froid et/ou à chaud et/ou électrolytique du substrat, b. une activation de la surface du substrat i. dans un bain d'amorçage de nickel ou ii. dans une solution d'activation contenant un fluorure ou iii. dans une solution d'activation exempte de fluorure, c. un dépôt galvanique d'une couche intermédiaire, i. une couche de nickel déposée galvaniquement ou ii. une couche d'alliage de nickel ou iii. une couche d'alliage de cuivre étant appliquée en tant que couche intermédiaire, d. un dépôt électrolytique d'une couche d'alliage d'or par un procédé à courant continu et/ou pulsé dans lequel la densité de courant est comprise entre 0,3 et 0,6 A/dm2.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)