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1. WO2015004110 - TRAGSYSTEM UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE

Veröffentlichungsnummer WO/2015/004110
Veröffentlichungsdatum 15.01.2015
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2014/064553
Internationales Anmeldedatum 08.07.2014
IPC
G03F 7/20 2006.01
GPhysik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
CPC
G02B 7/182
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
7Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
18for prisms; for mirrors
182for mirrors
G03F 7/70825
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals, windows for passing light in- and out of apparatus
70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • HARTJES, Joachim
Vertreter
  • RAUNECKER, Klaus, Peter
Prioritätsdaten
10 2013 213 544.010.07.2013DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) TRAGSYSTEM UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) SUPPORT SYSTEM AND PROJECTION PRINTING SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE SUPPORT ET INSTALLATION D'ÉCLAIRAGE PAR PROJECTION
Zusammenfassung
(DE)
Die Erfindung betrifft ein Tragsystem (7) für ein Spiegelsubstrat (1) für EUV-Spiegel, mit einem Außenring (4) zur Verbindung mit einer Tragstruktur einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, wobei der Außenring (4) mit mindestens einem Steg (5) im Inneren des Außenrings (4) verbunden ist und wobei mit dem mindestens einen Steg (5) mindestens ein Kontaktteil (6) verbunden ist. Dabei weist das Spiegelsubstrat (1) mindestens ein Loch (2) auf, welches von dem Kontaktteil mindestens teilweise umgeben ist. Daneben betrifft die Erfindung eine mit einem erfindungsgemäßen Tragsystem ausgestattete Projektionsbelichtungsanlage (111).
(EN)
The invention concerns a support system (7) for a mirror substrate (1) for EUV mirrors, comprising an outer ring (4) for connection to a support structure of an EUV projection printing system, the outer ring (4) being connected to at least one web (5) inside the outer ring (4), and at least one contact part (6) being connected to the at least one web (5). The mirror substrate (1) comprises at least one hole (2) which is surrounded at least partially by the contact part. The invention also concerns a projection printing system (111) equipped with a support system according to the invention.
(FR)
La présente invention concerne un système de support (7) pour un substrat de miroir (1) pour miroir EUV (extrême ultraviolet), comprenant une bague extérieure (4) conçue pour être raccordée à une structure de support d'une installation d'éclairage par projection EUV. Ladite bague extérieure (4) est raccordée à l'aide d'au moins une nervure (5) à l'intérieur de la bague extérieure (4). Au moins une partie de contact (6) est raccordée à ladite au moins une nervure (5). Le substrat de miroir (1) comporte au moins un orifice (2) qui est au moins partiellement entouré par la partie de contact. L'invention concerne également une installation d'éclairage par projection (11) équipée d'un tel système de support.
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