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1. (WO2014114549) CVD-ANLAGE MIT PARTIKELABSCHEIDER
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2014/114549    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2014/050769
Veröffentlichungsdatum: 31.07.2014 Internationales Anmeldedatum: 16.01.2014
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), B01D 29/00 (2006.01), F01N 3/023 (2006.01), B01D 46/00 (2006.01)
Anmelder: AIXTRON SE [DE/DE]; Dornkaulstraße 2 52134 Herzogenrath (DE)
Erfinder: GOERES, Wilfried; (DE).
LEHNEN, Peer; (DE).
MALLMANN, Heinrich; (DE)
Vertreter: GRUNDMANN, Dirk; Rieder & Partner Corneliusstraße 45 42329 Wuppertal (DE)
Prioritätsdaten:
10 2013 100 734.1 25.01.2013 DE
10 2014 100 092.7 07.01.2014 DE
Titel (DE) CVD-ANLAGE MIT PARTIKELABSCHEIDER
(EN) CVD SYSTEM HAVING PARTICLE SEPARATOR
(FR) INSTALLATION DE DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR COMPRENANT UN SÉPARATEUR DE PARTICULES
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Prozesskammer (8) eines Reaktorgehäuses (1), mit einem Gaseinlassorgan (11) zum Einleiten von Prozessgasen in die Prozesskammer (8), mit einem Gasauslassorgan (10) zum Austritt eines Abgasstromes aus der Prozesskammer (8) in einen in einem Partikelabscheidergehäuse (3) angeordneten, ein poröses Filtermedium (19) aufweisenden Partikelfilter (4) zum Ausfiltern sich bei einer Reaktion der Prozessgase bildenden Partikel aus dem Abgasstrom. Um die Filterleistung eines Partikelfilters an einer CVD- oder PVD-Vorrichtung zu verbessern und einen für diesen Einsatzzweck geeigneten Partikelfilter anzugeben, schlägt die Erfindung vor, dass die Porengröße und die Oberflächenbeschaffenheit des Filtermediums (16) derart gewählt ist, dass im Abgasstrom sich befindende Partikel an der Oberfläche des Filtermediums (16) anhaften, jedoch nicht in das Filtermedium (16) eindringen und die Partikel außerhalb des Filtermediums (16) zu Konglomeraten anwachsen, wobei eine Massenbeschleunigungseinrichtung vorgesehen ist zum Reinigen des Partikelfilters (4) durch mechanisches Entfernen der Konglomerate.
(EN)The invention relates to a device for coating substrates in a process chamber (8) of a reactor housing (1), having a gas inlet member (11) for introducing process gases into the process chamber (8), having a gas outlet member (10) for discharging a waste gas stream from the process chamber (8) into a particle filter (4), which is arranged in a particle separator housing (3) and has a porous filter medium (19), for filtering out particles that form during a reaction of the process gases from the waste gas stream. In order to improve the filter performance of a particle filter in a CVD or PVD device and to specify a particle filter suitable for this purpose, the pore size and the surface properties of the filter medium (16) according to the invention are selected such that particles in the waste gas stream adhere to the surface of the filter medium (16) but do not penetrate into the filter medium (16), and the particles accumulate outside the filter medium (16) to form conglomerates, wherein a mass acceleration means is provided to clean the particle filter (4) by mechanically removing the conglomerates.
(FR)L'invention concerne un dispositif de revêtement de substrats dans une chambre de processus (8) d'un boîtier de réacteur (1), comportant un organe d'entrée de gaz (11) destiné à l'entrée de gaz de processus dans la chambre de processus (8), et un organe de sortie de gaz (10) destiné à la sortie d'un flux de gaz de combustion hors de la chambre de processus (8), dans un filtre à particules (4) disposé dans un boîtier de séparateur de particules (3), présentant un milieu filtrant poreux (19), destiné à extraire par filtrage des particules contenues dans le flux de gaz de combustion, formées lors d'une réaction des gaz de processus. Pour améliorer la capacité de filtrage d'un filtre à particules sur un dispositif de dépôt chimique ou physique en phase vapeur, et mettre en oeuvre un filtre à particules conçu pour cette utilisation, la taille des pores et la constitution de surface du milieu filtrant (16) sont choisies de telle manière que des particules contenues dans le flux de gaz de combustion adhèrent à la surface du milieu filtrant (16) mais ne pénètrent pas dans le milieu filtrant (16) et les particules situées en dehors du milieu filtrant (16) forment des conglomérats, un dispositif d'accélération des masses étant prévu pour nettoyer le filtre à particules (4) par élimination mécanique des conglomérats.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)