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1. (WO2014111098) METHOD OF LITHOGRAPHICALLY TRANSFERRING A PATTERN ON A LIGHT SENSITIVE SURFACE AND ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2014/111098    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2013/000118
Veröffentlichungsdatum: 24.07.2014 Internationales Anmeldedatum: 17.01.2013
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 27/10 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Erfinder: SCHLESENER, Frank; (DE).
SÄNGER, Ingo; (DE).
DITTMANN, Olaf; (DE).
GÖHNERMEIER, Aksel; (DE).
PAZIDIS, Alexandra; (DE).
SCHICKETANZ, Thomas; (DE).
PATRA, Michael; (DE).
DEGÜNTHER, Markus; (DE)
Vertreter: SCHWANHÄUSSER, Gemot; Ostertag & Partner, Patentanwälte Epplestr. 14 70597 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
Titel (EN) METHOD OF LITHOGRAPHICALLY TRANSFERRING A PATTERN ON A LIGHT SENSITIVE SURFACE AND ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE TRANSFERT LITHOGRAPHIQUE D'UN MOTIF SUR UNE SURFACE PHOTOSENSIBLE ET SYSTÈME D’ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung: front page image
(EN)A method of lithographically transferring a pattern (18) on a light sensitive surface (22) in a multiple exposure process comprises the following steps: a) providing a mask (16; 216; 316) comprising a first mask pattern area (181; 2181; 3181) and a second mask pattern area (182; 2182; 3182); b) directing projection light on the mask, thereby producing on the light sensitive surface a first exposed pattern area (301; 2301; 3301), which is an image of the first mask pattern area (181; 2181; 3181), and a second exposed pattern area (302; 232; 3302), which is an image of the second mask pattern area (182; 2182; 3182). The projection light illuminating the first and second mask pattern area has different angular light distributions. c) repeating step b) using the same mask (16; 216; 316) so that an image of the first mask pattern area (181; 2181; 3181) is superimposed on the second exposure pattern area (302; 232; 3302).
(FR)La présente invention concerne un procédé de transfert lithographique d'un motif (18) sur une surface photosensible (22) dans un processus d'expositions multiples, lequel procédé comprend les étapes suivantes consistant : a) à fournir un masque (16 ; 216 ; 316) comprenant une première zone de motif de masque (181 ; 2181 ; 3181) et une seconde zone de motif de masque (182 ; 2182 ; 3182) ; b) à orienter la lumière de projection sur le masque, ce qui produit sur la surface photosensible une première zone de motif exposée (301 ; 2301 ; 3301), qui est une image de la première zone de motif de masque (181 ; 2181 ; 3181), et une seconde zone de motif exposée (302 ; 232 ; 3302), qui est une image de la seconde zone de dessin de masque (182 ; 2182 ; 3182). La lumière de projection éclairant la première et la seconde zone de motif de masque a différentes répartitions lumineuses angulaires. c) à répéter l'étape b) à l'aide du même masque (16 ; 216 ; 316) de sorte qu'une image de la première zone de motif de masque (181 ; 2181 ; 3181) est superposée sur la seconde zone de motif exposée (302 ; 232 ; 3302).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)