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1. (WO2014086903) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON NANOSTRUKTUREN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2014/086903    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2013/075613
Veröffentlichungsdatum: 12.06.2014 Internationales Anmeldedatum: 05.12.2013
IPC:
B81C 1/00 (2006.01)
Anmelder: LEIBNIZ-INSTITUT FÜR NEUE MATERIALIEN GEMEINNÜTZIGE GMBH [DE/DE]; Campus D2 2 66123 Saarbrücken (DE)
Erfinder: AKTAS, Oral Cenk; (DE).
MAY, Alexander Udo; (DE).
AKKAN, Çagri Kaan; (DE).
LEE, Juseok; (DE)
Vertreter: PATENTANWÄLTE GIERLICH & PISCHITZIS PARTNERSCHAFT; Gerbermühlstr. 11 60594 Frankfurt am Main (DE)
Prioritätsdaten:
10 2012 111 807.8 05.12.2012 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON NANOSTRUKTUREN
(EN) METHOD FOR PRODUCING NANOSTRUCTURES
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE NANOSTRUCTURES
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur einfachen Herstellung von Nanostrukturen. Dies wird durch die strukturierte Bestrahlung eines beschichteten Substrats erreicht, welches eine Beschichtung mit einer Dicke von unter 500 nm aufweist. Durch strukturierte Bestrahlung kommt es zur Ausbildung von Nanostrukturen, welche auch von dem Substrat abgelöst werden können.
(EN)The invention relates to a method for producing nanostructures in a simple manner. This is achieved by the structured irradiation of a coated substrate, which has a coating having a thickness less than 500 nm. The structured irradiation leads to the formation of nanostructures, which can also be removed from the substrate.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication simple de nanostructures. Celle-ci est obtenue par irradiation structurée d'un substrat revêtu présentant un revêtement ayant une épaisseur inférieure à 500 nm. L'irradiation structurée provoque la formation de nanostructures pouvant également être détachées du substrat.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)