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1. (WO2014063719) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITEOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2014/063719    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2012/004511
Veröffentlichungsdatum: 01.05.2014 Internationales Anmeldedatum: 27.10.2012
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 27/09 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Erfinder: PATRA, Michael; (DE)
Vertreter: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner Patentanwälte Epplestr. 14 70597 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
Titel (EN) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITEOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung: front page image
(EN)An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises an optical integrator (70), which includes a first optical raster plate (74) and a second optical raster plate (76). The first second optical raster plate (74) comprising an array of first lenses (78) having, along a reference direction (X), a first focal length f1, and the second optical raster plate (76) comprises an array of second lenses (84) having, along the reference direction (X), a second focal length f2. The vertices of the first lenses and vertices of the second lenses are spaced apart by a distance d that is greater than the second focal length f2 so that d> 1.01-f2. This ensures that laser pointing or another transient variation of the illumination of the optical integrator does not adversely affect the spatial irradiance distribution in a plane (90) which is illuminated by the optical integrator (70).
(FR)L'invention a trait à un système d'éclairage d'un appareil d'exposition par projection microlithographique qui comprend un intégrateur optique (70) comportant une première plaque de trame optique (74) ainsi qu'une seconde plaque de trame optique (76). La première plaque de trame optique (74) inclut un réseau de premières lentilles (78) qui présente, dans une direction de référence (X), une première longueur focale f1, et la seconde plaque de trame optique (76) inclut un réseau de secondes lentilles (84) qui présente, dans la direction de référence (X), une seconde longueur focale f2. Les sommets des premières lentilles et les sommets des secondes lentilles sont séparés par une distance d supérieure à la seconde longueur focale f2 de sorte que d > 1,01 - f2. Ainsi, le pointage laser ou une autre variation transitoire de l'éclairage de l'intégrateur optique n'altèrent pas la distribution d'éclairement énergétique spatiale dans un plan (90) qui est éclairé par ledit intégrateur optique (70).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)