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1. (WO2014056513) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2014/056513    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2012/004212
Veröffentlichungsdatum: 17.04.2014 Internationales Anmeldedatum: 08.10.2012
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Erfinder: PATRA, Michael; (DE)
Vertreter: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Patentanwälte Epplestr. 14 70597 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
Titel (EN) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE D'APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung: front page image
(EN)An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a spatial light modulator (38) which is arranged between a light source (30) and a pupil plane (56). The spatial light modulator (38) includes an array (40) of micromirrors or other light deflecting elements (42) each being capable of individually deflecting impinging projection into various directions. An irradiance distribution (310; 310M) on the mirror array (20) or its envelope (310E) has, along a direction X an increasing slope (72) and a decreasing slope (74). The control unit (43) controls the mirrors in such a way that a first mirror (42a), which is located at the increasing slope (72), and a second mirror (42b), which is located at the decreasing slope (74), deflect impinging projection light so that it at least partly overlaps in the pupil plane (56). This ensures that the angular irradiance distribution at mask level is substantially independent from beam pointing fluctuations.
(FR)La présente invention porte sur un système d'éclairage d'appareil (10) d'exposition par projection microlithographique, qui comprend un modulateur (30) spatial de lumière qui est agencé entre une source (30) lumineuse et un plan (56) de pupille. Le modulateur (38) spatial de lumière comprend un réseau (40) de micromiroirs ou d'autres éléments (42) de déviation de lumière qui sont chacun aptes à une déviation de manière individuelle d'une projection impactante dans différentes directions. Une distribution (310 ; 310M) d'éclairement énergétique sur le réseau (20) de miroirs ou son enveloppe (310E) a, le long d'une direction X une pente (72) montante et une pente (74) descendante. L'unité (43) de commande commande les miroirs d'une telle façon qu'un premier miroir (42a), qui est positionné au niveau de la pente (72) montante, et un second miroir (42b) qui est positionné au niveau de la pente (74) descendante, dévient une lumière de projection impactante de telle sorte qu'elle soit au moins partiellement recouvrante dans le plan (56) de pupille. Ceci garantit que la distribution d'éclairement énergétique angulaire à un niveau de masque est sensiblement indépendante de fluctuations de pointage de faisceau.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)