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1. WO2014008989 - HOCHLEISTUNGSIMPULSBESCHICHTUNGSVERFAHREN

Veröffentlichungsnummer WO/2014/008989
Veröffentlichungsdatum 16.01.2014
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2013/001914
Internationales Anmeldedatum 29.06.2013
IPC
C23C 14/34 2006.1
CSektion C Chemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
34durch Aufstäuben
H01J 37/34 2006.1
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
JElektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32Gasgefüllte Entladungsröhren
34mit Kathodenzerstäubung arbeitend
CPC
C23C 14/345
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
34Sputtering
3435Applying energy to the substrate during sputtering
345using substrate bias
C23C 14/3464
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
34Sputtering
3464using more than one target
C23C 14/3485
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
34Sputtering
3485using pulsed power to the target
H01J 2237/332
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
32Processing objects by plasma generation
33characterised by the type of processing
332Coating
H01J 37/3405
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
34operating with cathodic sputtering
3402using supplementary magnetic fields
3405Magnetron sputtering
H01J 37/3467
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
34operating with cathodic sputtering
3464Operating strategies
3467Pulsed operation, e.g. HIPIMS
Anmelder
  • OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH [CH]/[CH]
Erfinder
  • KRASSNITZER, Siegfried
  • KURAPOV, Denis
Vertreter
  • KEMPKENS, Anke
Prioritätsdaten
10 2012 013 577.710.07.2012DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (de)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) HOCHLEISTUNGSIMPULSBESCHICHTUNGSVERFAHREN
(EN) HIGH-POWER PULSE COATING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT PAR IMPULSION HAUTE PUISSANCE
Zusammenfassung
(DE) Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Ermittlung des Reaktivgasverbrauchs in einem Beschichtungsprozess mittels Plasma mit folgenden Schritten: a) Einlass von Reaktivgas in eine Beschichtungskammer wobei der entsprechende Reaktivgasfluss gemessen wird und gleichzeitig der in der Beschichtungskammer vorherrschende Partialdruck gemessen wird, ohne ein Plasma zu zünden b) Einlass von Reaktivgas in eine Beschichtungskammer wobei der entsprechende Reaktivgasfluss gemessen wird und gleichzeitig der in der Beschichtungskammer vorherrschende Partialdruck gemessen wird, wobei ein Plasma gezündet ist, dadurch gekennzeichnet, dass - Schritte a) und b) bei mehreren unterschiedlichen Reaktivgasflüssen durchgeführt werden und so die Reaktivgasfluss - Partialdruckabhängigkeit sowohl mit Plasma als auch ohne Plasma ermittelt werden kann - bei gegebenem Partialdruck Abzug des Reaktivgasflusswertes der ohne Plasma ermittelt wurde vom Reaktivgasflusswert der mit Plasma ermittelt wurde und Gleichsetzung der Differenz mit dem Reaktivgasverbrauch.
(EN) The present invention relates to a method for determining the reactive gas consumption in a coating process using plasma, comprising the following steps: a) admitting reactive gas into a coating chamber, wherein the corresponding reactive gas flow is measured and, at the same time, the partial pressure prevailing in the coating chamber is measured, without igniting a plasma; b) admitting reactive gas into a coating chamber, wherein the corresponding reactive gas flow is measured and, at the same time, the partial pressure prevailing in the coating chamber is measured, wherein a plasma is ignited. The method is characterized in that - the steps a) and b) are carried out in the case of a plurality of different reactive gas flows and thus the partial pressure dependence of the reactive gas flow can be determined both with plasma or without plasma, - in the case of a given partial pressure, deduction of the reactive gas flow value that has been determined without plasma from the reactive gas flow value that has been determined with plasma and equating the difference to the reactive gas consumption.
(FR) L'invention concerne un procédé permettant de déterminer la consommation de gaz réactif pendant un processus de revêtement par plasma, comportant les étapes consistant a) à introduire du gaz réactif dans une chambre de revêtement, le débit de gaz réactif correspondant étant mesuré simultanément avec la pression partielle à l'intérieur de la chambre de revêtement, sans allumer un plasma, b) à introduire du gaz réactif dans une chambre de revêtement, le débit de gaz réactif correspondant étant mesuré simultanément avec la pression partielle à l'intérieur de la chambre de revêtement, un plasma étant allumé. L'invention est caractérisée en ce que les étapes a) et b) sont mises en oeuvre pour plusieurs débits différents de gaz réactif, et ainsi la relation de dépendance entre le débit de gaz réactif et la pression partielle peut être déterminée aussi bien avec ou sans plasma, et en ce que, pour une pression partielle définie, la valeur de débit de gaz réactif déterminée sans plasma est soustraite de la valeur de débit de gaz réactif déterminée avec plasma, la différence correspondant à la consommation de gaz réactif.
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten