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1. (WO2014001293) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES DOTIERTEN SIO2-SCHLICKERS SOWIE VERWENDUNG DES SIO2-SCHLICKERS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2014/001293    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2013/063213
Veröffentlichungsdatum: 03.01.2014 Internationales Anmeldedatum: 25.06.2013
IPC:
C03B 19/06 (2006.01), B28B 1/26 (2006.01), C01B 33/14 (2006.01), C01B 33/18 (2006.01), C03C 4/00 (2006.01)
Anmelder: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG [DE/DE]; Quarzstrasse 8 63450 Hanau (DE)
Erfinder: SUCH, Mario; (DE).
SCHOETZ, Gerhard; (DE).
LANGNER, Andreas; (DE)
Vertreter: STAUDT, Armin; Sandeldamm 24a 63450 Hanau (DE)
Prioritätsdaten:
102012012524.0 26.06.2012 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES DOTIERTEN SIO2-SCHLICKERS SOWIE VERWENDUNG DES SIO2-SCHLICKERS
(EN) METHOD FOR PRODUCING A DOPED SIO2 SLURRY AND USE OF THE SIO2 SLURRY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE BARBOTINE DE SIO2 DOPÉ ET UTILISATION DE CETTE BARBOTINE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines dotierten SiO2- Schlickers indem eine SiO2-Suspension mit mindestens einer Dotierlösung in Wechselwirkung gebracht wird, wobei die SiO2-Suspension oder/und die Dotierlösung als Sprühnebel aufeinander einwirken, dessen mittlerer Tropfendurchmesser im Bereich zwischen 10 μm und 100 μm liegt. Die Erfindung betrifft weiterhin die Verwendung eines mittels des Sprühnebelverfahrens dotierten SiO2-Schlickers zur Herstellung von dotiertem Quarzglas, insbesondere zur Herstellung von laseraktivem Quarzglas.
(EN)The invention relates to a method for producing a doped SiO2 slurry in which an SiO2 suspension is brought into interaction with at least one doping solution, wherein the SiO2 suspension and/or the doping solution act on one another in the form of an atomised spray, the average droplet diameter of which is in the range between 10 μm and 100 μm. The invention further relates to the use of an SiO2 slurry doped by the atomised spray method for the production of doped quartz glass, particularly for the production of laser-active quartz glass.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une barbotine de SiO2 dopé en faisant interagir une suspension de SiO2 avec au moins une solution de dopage. La suspension de SiO2 ou/et la solution de dopage agissent l'une sur l'autre sous la forme d'un brouillard de gouttelettes dont le diamètre moyen va de 10 μm à 100 μm. L'invention concerne en outre l'utilisation d'une barbotine de SiO2 dopée par le procédé à base de brouillard de gouttelettes pour fabriquer un verre de quartz dopé, en particulier pour fabriquer du verre de quartz actif au laser.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)