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1. (WO2014000763) METHOD FOR DESIGNING AN ILLUMINATION OPTICS AND ILLUMINATION OPTICS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2014/000763 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2012/062254
Veröffentlichungsdatum: 03.01.2014 Internationales Anmeldedatum: 25.06.2012
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
PATRA, Michael [DE/DE]; DE (UsOnly)
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
Erfinder:
PATRA, Michael; DE
Vertreter:
RAU, SCHNECK & HÜBNER; Königstrasse 2 90402 Nürnberg, DE
Prioritätsdaten:
Titel (EN) METHOD FOR DESIGNING AN ILLUMINATION OPTICS AND ILLUMINATION OPTICS
(FR) PROCÉDÉ DE CONCEPTION D'UNE OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE, ET OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE
Zusammenfassung:
(EN) Method for designing an allocation of pupil facets (11) to field facets (7) of an illumination optics (23) for an EUV-projection exposure system (1) taking into account variations of the corresponding intensity distribution in an imaging pupil at different length scales.
(FR) L'invention concerne un procédé de conception d'une optique d'éclairage (23) comprenant l'attribution de facettes de pupilles (11) à des facettes de champ (7) pour un système d'exposition par projection EUV (1) prenant en compte des variations de la distribution d'intensité correspondante dans une pupille d'imagerie à différentes échelles de longueur.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)