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1. (WO2013124059) VERFAHREN MIT PASSER ZWISCHEN DRUCKELEMENT UND WASSERZEICHEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2013/124059    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2013/000489
Veröffentlichungsdatum: 29.08.2013 Internationales Anmeldedatum: 20.02.2013
IPC:
B41M 3/00 (2006.01), B41M 3/14 (2006.01), B41M 3/10 (2006.01), B42D 15/10 (2006.01)
Anmelder: GIESECKE & DEVRIENT GMBH [DE/DE]; Prinzregentenstrasse 159 81677 München (DE)
Erfinder: SCHIFFMAN, Peter; (DE).
REINER, Harald; (DE).
KECK-ANGERER, Angelika; (DE).
KISSELOVA, Jana; (DE)
Prioritätsdaten:
10 2012 003 601.9 21.02.2012 DE
Titel (DE) VERFAHREN MIT PASSER ZWISCHEN DRUCKELEMENT UND WASSERZEICHEN
(EN) METHOD WITH REGISTER BETWEEN PRINT ELEMENT AND WATER MARK
(FR) PROCÉDÉ AVEC ALIGNEMENT ENTRE UN ÉLÉMENT D'IMPRESSION ET UN FILIGRANE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Sicherheitselementes (1), wobei ein Substrat (2) bereitgestellt wird, das eine Vorder- sowie eine Rückseite (3, 4) hat, zumindest für bestimmte Strahlung (10) transluzent ist und ein Wasserzeichen (5) aufweist, welches die Opazität des Substrates (2) moduliert, auf die Vorderseite (3) ein Druckelement (9) aufgebracht wird, wobei auf der Vorderseite (3) das Druckelement (9) das Wasserzeichen (5) zumindest teilweise überdeckt, das Druckelement (9) mittels der bestimmten Strahlung (10) modifizierbar ist, und das Substrat (2) von der Rückseite (4) mit der bestimmten Strahlung (10) durchstrahlt wird, wobei das Wasserzeichen (5) bezüglich der Modifikation des Druckelementes (9) als Maske verwendet wird und das Druckelement (9) im Passer zum Wasserzeichen (5) modifiziert wird.
(EN)The invention relates to a method for producing a security element (1), wherein a substrate (2) is provided which has a front and a rear side (3, 4), is translucent at least for specific radiation (10) and has a water mark (5) which modulates the opacity of the substrate (2), a print element (9) is applied to the front side (3), wherein the print element (9) covers the water mark (5) at least partially on the front side (3), the print element (9) can be modified by means of the specific radiation (10), and the substrate (2) is penetrated by the specific radiation (10) from the rear side (4), wherein the water mark (5) is used as a mask with regard to the modification of the print element (9), and the print element (9) is modified in register with the water mark (5).
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément de sécurité (1), dans lequel on utilise un substrat (2) qui possède une face avant ainsi qu'une face arrière (3, 4), qui est translucide au moins pour un rayonnement donné (10) et qui présente un filigrane (5) qui module l'opacité du substrat (2). Selon l'invention, un élément d'impression (9) est appliqué sur la face avant (3), l'élément d'impression (9) recouvrant au moins partiellement le filigrane (5) sur la face avant (3). L'élément d'impression (9) peut être modifié au moyen du rayonnement donné (10), le substrat (2) étant traversé par le rayonnement donné (10) depuis la face arrière (4). Le filigrane (5) est utilisé comme masque en rapport avec la modification de l'élément d'impression (9) et l'élément d'impression (9) est modifié dans l'alignement par rapport au filigrane (5).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)