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1. (WO2013110384) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES STRUKTURIERTEN MEHRSCHICHTSYSTEMS UNTER|VERWENDUNG VON EIGENINTERFERENZFÄHIGER BEARBEITUNGSSTRAHLUNG VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES STRUKTURIERTEN MEHRSCHICHTSYSTEMS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2013/110384    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2012/074337
Veröffentlichungsdatum: 01.08.2013 Internationales Anmeldedatum: 04.12.2012
IPC:
B23K 26/00 (2006.01), B23K 26/36 (2006.01), B23K 26/40 (2006.01), H01L 27/142 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 31/18 (2006.01)
Anmelder: ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart (DE) (For All Designated States Except US).
DIEZ, Michael [DE/DE]; (DE) (US only).
GAUCH, Roland [DE/DE]; (DE) (US only).
LETSCH, Andreas [DE/DE]; (DE) (US only)
Erfinder: DIEZ, Michael; (DE).
GAUCH, Roland; (DE).
LETSCH, Andreas; (DE)
Allgemeiner
Vertreter:
ROBERT BOSCH GMBH; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
10 2012 200 915.9 23.01.2012 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES STRUKTURIERTEN MEHRSCHICHTSYSTEMS UNTER|VERWENDUNG VON EIGENINTERFERENZFÄHIGER BEARBEITUNGSSTRAHLUNG VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES STRUKTURIERTEN MEHRSCHICHTSYSTEMS
(EN) METHOD FOR PRODUCING A STRUCTURED MULTI-LAYER SYSTEM USING A PROCESSING BEAM CAPABLE OF NATURAL INTERFERENCE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SYSTÈME MULTICOUCHE STRUCTURÉ
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines strukturierten Mehrschichtsystems (20) unter Einsatz von eigeninterferenzfähiger Bearbeitungsstrahlung (L') einer Wellenlänge, für die mindestens eine Schicht des Mehrschichtsystems partiell durchlässig ist, wobei die Schichtdicke (d1) mindestens einer ersten partiell durchlässigen Schicht (25), die Wellenlänge und Intensität der Bearbeitungsstrahlung (L') und deren Einfallswinkel derart vorbestimmt werden, dass in der ersten Schicht (25) im Einwirkungsbereich der Bearbeitungsstrahlung infolge destruktiver Interferenz ein erhöhter Energiebetrag absorbiert wird, der gleich einer Modifikations-Schwellenenergie der ersten Schicht (25) ist oder geringfügig über dieser liegt.
(EN)The invention relates to a method for producing a structured multi-layered system (20) using a wavelength processing beam (L) capable of natural interference which is at least partially permeable for the at least one layer of the multi-layer system, the layer thickness (d1) of at least one first partially permeable layer (25), the wavelength and intensity of the processing beam (L') and the incidence angle being predetermined in such a way that in the first layer (25), in the active area of the processing beam, an increased amount of energy is absorbed as a result of destructive interference, said quantity being equal to a modification of the energy threshold of the first layer (25) or being slightly above this.
(FR)Procédé de fabrication d'un système multicouche structuré (20) à l'aide d'un rayonnement de traitement (L) capable d'interférence intrinsèque d'une longueur d'onde qui est partiellement transparente pour la ou les couches du système multicouche, l'épaisseur de couche (d; d1) d'au moins une première couche (13; 25) partiellement transparente, la longueur d'onde et l'intensité du rayonnement de traitement et son angle d'incidence étant prédéfinis de manière telle que dans la première couche, dans la zone d'action du rayonnement de traitement, une quantité d'énergie accrue est absorbée en raison de l'interférence destructrice, quantité qui est égale à une énergie de seuil de modification de la première couche ou qui lui est légèrement supérieure.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)