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1. (WO2012160061) ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR PROJECTION LITHOGRAPHY
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2012/160061    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2012/059491
Veröffentlichungsdatum: 29.11.2012 Internationales Anmeldedatum: 22.05.2012
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
PATRA, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: PATRA, Michael; (DE)
Vertreter: RAU, SCHNECK & HÜBNER; Königstrasse 2 90402 Nürnberg (DE)
Prioritätsdaten:
10 2011 076 436.4 25.05.2011 DE
61/489,732 25.05.2011 US
Titel (EN) ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR PROJECTION LITHOGRAPHY
(FR) UNITÉ OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE POUR LA LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION
Zusammenfassung: front page image
(EN)An illumination optical unit for projection lithography serves for illuminating an object field, in which a structure to be imaged can be arranged, with illumination light (3). The illumination optical unit has a mirror array (26) comprising a multiplicity of individual mirrors (27). The mirror array (26) is arranged in the illumination optical unit such that a change in an intensity distribution of the illumination light (3) on the mirror array (26) leads to a change in an illumination angle distribution of the illumination light (3) on the objet field (5). A ray deflecting device (25) for deflecting the illumination light (3) is arranged upstream of the mirror array (26) in the beam path of the illumination light (3). The ray deflecting device (25) is embodied in such a way that an intensity distribution (28a) of the illumination light (3) on the mirror array (26) is displaced on account of the ray deflection by the ray deflecting device (25). This results in an illumination optical unit which makes it possible to vary an illumination angle distribution for illuminating the object field between successive illumination processes with a tenable outlay and rapidly if possible.
(FR)L'unité optique d'éclairage selon l'invention pour la lithographie par projection sert à éclairer un champ d'objet, dans lequel une structure dont l'image doit être réalisée peut être agencée, avec une lumière d'éclairage (3). L'unité optique d'éclairage a une matrice de miroirs (26) comprenant une multiplicité de miroirs individuels (27). La matrice de miroirs (26) est agencée dans l'unité optique d'éclairage de telle sorte qu'un changement de distribution d'intensité de la lumière d'éclairage (3) sur la matrice de miroirs (26) conduit à un changement de la distribution d'angle d'éclairage de la lumière d'éclairage (3) sur le champ d'objet (5). Un dispositif de déviation des rayons (25) permettant de dévier la lumière d'éclairage (3) est agencé en amont de la matrice de miroirs (26) dans le chemin du faisceau de la lumière d'éclairage (3). Le dispositif de déviation de rayons (25) est réalisé de telle manière qu'une distribution d'intensité (28a) de la lumière d'éclairage (3) sur la matrice de miroirs (26) est déplacée en raison de la déviation des rayons par le dispositif de déviation de rayons (25). Cela résulte en une unité optique d'éclairage qui rend possible de varier une distribution d'angle d'éclairage pour éclairer le champ d'objet entre des processus d'éclairage successifs avec une dépense soutenable et rapidement si possible.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)