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1. (WO2012116710) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2012/116710    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2011/000960
Veröffentlichungsdatum: 07.09.2012 Internationales Anmeldedatum: 28.02.2011
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
PATRA, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DEGÜNTHER, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: PATRA, Michael; (DE).
DEGÜNTHER, Markus; (DE)
Vertreter: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner Epplestr. 14 70597 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
Titel (EN) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION À PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung: front page image
(EN)An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a light source (30) which is configured to produce projection light (PL), a pupil plane (84) and a diffractive optical element (48) that is arranged between the light source (30) and the pupil plane (84) such that an irradiance distribution of projection light (PL) in the pupil plane (84) depends on the position of a field (96a, 96b, 96c) that is illuminated by the projection light (PL) on the diffractive optical element (48). The illumination system further comprises an optical imaging system (34; 134; 234; 334) that is arranged between the light source (30) and the diffractive optical element (48). The optical imaging system ensures that changes of the direction and divergence of the projection light (PL) emitted by the light source (30) have no substantial effect on the position and size of the field which is illuminated on the diffractive optical element (48) by the projection light (PL).
(FR)L'invention porte sur un système d'éclairage d'un appareil d'exposition à projection microlithographique (10), lequel système comprend une source de lumière (30) qui est configurée de façon à produire une lumière de projection (PL), un plan de pupille (84) et un élément optique à diffraction (48) qui est disposé entre la source de lumière (30) et le plan de pupille (84), de telle sorte qu'une distribution d'éclairement énergétique de lumière de projection (PL) dans le plan de pupille (84) dépend de la position d'un champ (96a, 96b, 96c) qui est éclairé par la lumière de projection (PL) sur l'élément optique à diffraction (48). Le système d'éclairage comprend de plus un système de réalisation d'image optique (34 ; 134 ; 234 ; 334) qui est disposé entre la source de lumière (30) et l'élément optique à diffraction (48). Le système de réalisation d'image optique assure que des changements de la direction et de la divergence de la lumière de projection (PL) émis par la source de la lumière de projection (PL) émise par la source de lumière (30) n'ont pas d'effet sensible sur la position et la taille du champ qui est éclairé sur l'élément optique à diffraction (48) par la lumière de projection (PL).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)