WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Suche
 
Durchsuchen
 
Übersetzen
 
Optionen
 
Aktuelles
 
Einloggen
 
Hilfe
 
Maschinelle Übersetzungsfunktion
1. (WO2012089224) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2012/089224    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2010/007953
Veröffentlichungsdatum: 05.07.2012 Internationales Anmeldedatum: 28.12.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber Str. 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
PATRA, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BIELING, Stig [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DEGÜNTHER, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHLESENER, Frank [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHWAB, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: PATRA, Michael; (DE).
BIELING, Stig; (DE).
DEGÜNTHER, Markus; (DE).
SCHLESENER, Frank; (DE).
SCHWAB, Markus; (DE)
Vertreter: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner Epplestrasse 14 70597 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
Titel (EN) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung: front page image
(EN)An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a light source (30), which is configured to produce a projection light beam (34), and a first and a second diffractive optical element (42, 44; 242, 244) arranged between the light source (30) and a pupil plane (84). The diffractive effect produced by each diffractive optical element depends on the position of a light field (110) that is irradiated by the projection light beam (34) on the diffractive optical elements (42, 44; 242, 244). A displacement mechanism (54, 64) changes the mutual spatial arrangement of the diffractive optical elements. In at least one of the mutual spatial arrangements, which can be obtained with the help of the displacement mechanism (54, 64), the light field (110) extends both over the first and the second diffractive optical element (42, 44; 242, 244). This makes it possible to produce in a simple manner continuously variable illumination settings.
(FR)La présente invention se rapporte à un système d'éclairage d'un appareil d'exposition par projection microlithographique (10). Ledit système d'éclairage comprend une source de lumière (30) qui est configurée pour produire un faisceau lumineux de projection (34), ainsi que des premier et second éléments optiques de diffraction (42, 44; 242, 244) agencés entre la source de lumière (30) et un plan de pupille (84). L'effet de diffraction produit par chaque élément optique de diffraction dépend de la position d'un champ de lumière (110) qui est émis par le faisceau lumineux de projection (34) sur les éléments optiques de diffraction (42, 44; 242, 244). Un mécanisme de déplacement (54, 64) modifie l'agencement spatial mutuel des éléments optiques de diffraction. Selon au moins l'un des agencements spatiaux mutuels qui peuvent être obtenus avec l'aide du mécanisme de déplacement (54, 64), le champ de lumière (110) s'étend à la fois sur les premier et second éléments optiques de diffraction (42, 44; 242, 244). Cela permet de produire de façon continue et de manière simple des réglages d'éclairage variables.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)