In Bearbeitung

Bitte warten ...

Einstellungen

Einstellungen

Gehe zu Anmeldung

1. WO2012055495 - RESISTSTRUKTUR ZUR HERSTELLUNG EINER RÖNTGENOPTISCHEN GITTERSTRUKTUR

Veröffentlichungsnummer WO/2012/055495
Veröffentlichungsdatum 03.05.2012
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2011/005141
Internationales Anmeldedatum 13.10.2011
IPC
G21K 1/06 2006.1
GSektion G Physik
21Kernphysik; Kerntechnik
KVerfahren und Vorrichtungen zur Handhabung von Teilchen oder ionisierender Strahlung, soweit nicht anderweitig vorgesehen; Bestrahlungsvorrichtungen; Gammastrahlmikroskope oder Röntgenstrahlmikroskope
1Anordnungen zur Handhabung von ionisierender Strahlung oder von Teilchen, z.B. Fokussieren oder Moderieren
06unter Anwendung von Beugung, Brechung oder Reflexion, z.B. Monochromatoren
CPC
G21K 1/06
GPHYSICS
21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
1Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
06using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
G21K 2207/005
GPHYSICS
21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
2207Particular details of imaging devices or methods using ionizing electromagnetic radiation such as X-rays or gamma rays
005Methods and devices obtaining contrast from non-absorbing interaction of the radiation with matter, e.g. phase contrast
Anmelder
  • KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • MOHR, Jürgen [DE]/[DE] (UsOnly)
  • LAST, Arndt [DE]/[DE] (UsOnly)
  • NAZMOV, Vladimir [DE]/[DE] (UsOnly)
  • SIMON, Markus [DE]/[DE] (UsOnly)
  • GRUND, Thomas [DE]/[DE] (UsOnly)
  • KENNTNER, Johannes [DE]/[DE] (UsOnly)
Erfinder
  • MOHR, Jürgen
  • LAST, Arndt
  • NAZMOV, Vladimir
  • SIMON, Markus
  • GRUND, Thomas
  • KENNTNER, Johannes
Gemeinsamer Vertreter
  • KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE [DE]/[DE]
Prioritätsdaten
10 2010 049 994.328.10.2010DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (de)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) RESISTSTRUKTUR ZUR HERSTELLUNG EINER RÖNTGENOPTISCHEN GITTERSTRUKTUR
(EN) RESIST STRUCTURE FOR PRODUCING AN X-RAY OPTICAL GRATING STRUCTURE
(FR) STRUCTURE DE RÉSIST POUR LA FABRICATION D'UNE STRUCTURE DE GRILLE OPTIQUE À RAYONS X
Zusammenfassung
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft eine Resiststruktur zur Herstellung einer röntgenoptischen Gitterstruktur. Die Erfindung umfasst stabilisierende Balken (3), die in die Resiststruktur eingebracht werden. Dabei sind die Stege (1) der Resiststruktur mit einem ersten Winkel alpha auf einem Substrat (2) angebracht und die stabilisierenden Balken mit einem zweiten Winkel beta, wobei zwischen alpha und beta vorzugsweise mindestens ein Abstand von 20 º und höschstens ein Abstand von 70 º besteht, um eine möglichst gute stabilisierende Wirkung zu erhalten. Insbesondere soll die Herstellung von röntgenoptischen Gitterstrukturen mit Aspektverhältnissen von über 500 ermöglicht werden, ohne dass sich die Gitterstege verbiegen, oder sich die stabilisierende Struktur nachteilig auf die Visibility auswirkt. Die Resiststrukturen eignen sich besonders zur Herstellung röntgenoptischer Gitterstrukturen aus Gold.
(EN) The invention relates to a resist structure for producing an X-ray optical grating structure. The invention comprises stabilizing bars (3) which are introduced into the resist structure. The webs (1) of the resist structure are applied to a substrate (2) at a first angle alpha, and the stabilizing bars at a second angle beta, wherein, between alpha and beta, there is preferably at least a spacing of 20° and at most a spacing of 70°, in order to obtain the best possible stabilizing action. In particular, the production of X-ray optical grating structures having aspect ratios of more than 500 is made possible without the grating structures bending or the stabilizing structure having a detrimental effect on the visibility. The resist structures are suitable in particular for producing X-ray optical grating structures from gold.
(FR) L'invention concerne une structure de résist pour la fabrication d'une structure de grille optique à rayons X. L'invention comprend des poutres (3) stabilisatrices qui sont incorporées dans la structure de résist. Les nervures (1) de la structure de résist sont apposées sur un substrat (2) avec un premier angle alpha et les poutres stabilisatrices avec un deuxième angle bêta, l'écart entre alpha et bêta étant de préférence d'au moins 20° et d'au plus 70° pour permettre un effet stabilisateur le meilleur possible. En particulier, il est censé devenir possible de préparer des structures de grille optique à rayons X avec des rapports d'aspect de plus de 500, sans que les nervures de la grille ne se déforment et sans que la structure stabilisatrice ne se répercute défavorablement sur le contraste. Les structures de résist conviennent particulièrement à la fabrication de structures de grille optique à rayons X en or.
Verwandte Patentdokumente
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten