(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft eine Resiststruktur zur Herstellung einer röntgenoptischen Gitterstruktur. Die Erfindung umfasst stabilisierende Balken (3), die in die Resiststruktur eingebracht werden. Dabei sind die Stege (1) der Resiststruktur mit einem ersten Winkel alpha auf einem Substrat (2) angebracht und die stabilisierenden Balken mit einem zweiten Winkel beta, wobei zwischen alpha und beta vorzugsweise mindestens ein Abstand von 20 º und höschstens ein Abstand von 70 º besteht, um eine möglichst gute stabilisierende Wirkung zu erhalten. Insbesondere soll die Herstellung von röntgenoptischen Gitterstrukturen mit Aspektverhältnissen von über 500 ermöglicht werden, ohne dass sich die Gitterstege verbiegen, oder sich die stabilisierende Struktur nachteilig auf die Visibility auswirkt. Die Resiststrukturen eignen sich besonders zur Herstellung röntgenoptischer Gitterstrukturen aus Gold.
(EN) The invention relates to a resist structure for producing an X-ray optical grating structure. The invention comprises stabilizing bars (3) which are introduced into the resist structure. The webs (1) of the resist structure are applied to a substrate (2) at a first angle alpha, and the stabilizing bars at a second angle beta, wherein, between alpha and beta, there is preferably at least a spacing of 20° and at most a spacing of 70°, in order to obtain the best possible stabilizing action. In particular, the production of X-ray optical grating structures having aspect ratios of more than 500 is made possible without the grating structures bending or the stabilizing structure having a detrimental effect on the visibility. The resist structures are suitable in particular for producing X-ray optical grating structures from gold.
(FR) L'invention concerne une structure de résist pour la fabrication d'une structure de grille optique à rayons X. L'invention comprend des poutres (3) stabilisatrices qui sont incorporées dans la structure de résist. Les nervures (1) de la structure de résist sont apposées sur un substrat (2) avec un premier angle alpha et les poutres stabilisatrices avec un deuxième angle bêta, l'écart entre alpha et bêta étant de préférence d'au moins 20° et d'au plus 70° pour permettre un effet stabilisateur le meilleur possible. En particulier, il est censé devenir possible de préparer des structures de grille optique à rayons X avec des rapports d'aspect de plus de 500, sans que les nervures de la grille ne se déforment et sans que la structure stabilisatrice ne se répercute défavorablement sur le contraste. Les structures de résist conviennent particulièrement à la fabrication de structures de grille optique à rayons X en or.
