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1. (WO2012034571) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2012/034571    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2010/005628
Veröffentlichungsdatum: 22.03.2012 Internationales Anmeldedatum: 14.09.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
SCHWAB, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
PATRA, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: SCHWAB, Markus; (DE).
PATRA, Michael; (DE)
Vertreter: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner Patentanwälte Epplestr. 14 70597 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
Titel (EN) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION À PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung: front page image
(EN)An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a dividing array (36; 136; 236) of optical elements (70a, 70b; 170a, 170b; 270). Each optical element has a positive optical power and produces a converging light beam (LBa, LBb). A spatial light modulator (38) is arranged between the dividing array (36; 136; 236) and a surface (76) and is configured to vary an irradiance distribution in the surface (78). The modulator comprises an array (40) of mirrors each being configured to deflect a converging light beam (LBa, LBb) produced by the associated optical element by a deflection angle that is variable in response to a control signal. Each mirror directs the deflected light beam towards the surface (76) where the deflected light beam produces a light spot (78a, 78b, 78c). At least two optical elements (70a, 70b; 170a, 170b; 270) of the dividing array (36; 136; 236) have different optical properties so that the spot sizes of the light spots are different.
(FR)L'invention porte sur un système d'éclairage d'un appareil d'exposition à projection microlithographique, lequel système comprend un réseau de division (36; 136; 236) d'éléments optiques (70a, 70b; 170a, 170b; 270). Chaque élément optique a une puissance optique positive, et produit un faisceau de lumière convergent (LBa, LBb). Un modulateur spatial de lumière (38) est disposé entre le réseau de division (36; 136; 236) et une surface (76), et est configuré de façon à faire varier une distribution de la densité de flux énergétique dans la surface (78). Le modulateur comprend un réseau (40) de miroirs configurés chacun de façon à dévier un faisceau de lumière convergent (LBa, LBb) produit par l'élément optique associé d'un angle de déviation qui est variable en réponse à un signal de commande. Chaque miroir dirige le faisceau de lumière dévié vers la surface (76) où le faisceau de lumière dévié produit un point lumineux (78a, 78b, 78c). Au moins deux éléments optiques (70a, 70b; 170a, 170b; 270) du réseau de division (36; 136; 236) ont des propriétés optiques différentes, de sorte que les tailles des points lumineux soient différentes.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)