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1. (WO2011157601) ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH AN ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2011/157601    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2011/059427
Veröffentlichungsdatum: 22.12.2011 Internationales Anmeldedatum: 08.06.2011
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
PATRA, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DEGÜNTHER, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LAYH, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: PATRA, Michael; (DE).
DEGÜNTHER, Markus; (DE).
LAYH, Michael; (DE)
Vertreter: RAU, SCHNECK & HÜBNER; Königstrasse 2 90402 Nürnberg (DE)
Prioritätsdaten:
10 2010 030 089.6 15.06.2010 DE
61/354,772 15.06.2010 US
Titel (EN) ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH AN ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE OPTIQUE POUR LA MICROLITHOGRAPHIE ET SYSTÈME D'EXPOSITION PAR PROJECTION AYANT UN SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE OPTIQUE DE CE TYPE
Zusammenfassung: front page image
(EN)An illumination optical system (7) for microlithography is used to guide illumination light (8) from a primary light source (6) to an object field (3). A mirror array (10) of the illumination optical system (7) has a plurality of individual mirrors (11), which can be tilted independently of one another by actuators and are connected to associated tilting actuators (12).A controller (14) is used to activate the actuators (12).A raster module (19) of the illumination optical system (7) has a plurality of raster elements (28, 30) to produce a spatially distributed arrangement of secondary light sources. The raster module (19) is arranged in the region of a plane (20) of the illumination optical system (7), in which an emergent angle (ARx ), at which an illumination light part bundle (15) leaves one of the raster elements (30), is precisely allocated to a location region in the object field (3), on which the illumination light part bundle (15) impinges on the object field (3).The controller (14) is configured in such a way that a specification of a tilting angle for each individual mirror (11) is allocated to a predetermined desired course of illumination angle intensity distributions, with which object field points distributed over the object field (3) are impinged upon. The raster module (19), depending on the respective actual angle of incidence, produces another intensity course in the object field (3). The result is an illumination optical system, in which an illumination intensity over the object field can be influenced in a targeted manner with respect to the total illumination intensity and/or with respect to the intensity contributions from different illumination directions.
(FR)La présente invention se rapporte à un système d'éclairage optique (7) pour la microlithographie qui est utilisé pour guider une lumière d'éclairage (8) depuis une source de lumière primaire (6) jusqu'à un champ d'objet (3). Un réseau de miroirs (10) du système d'éclairage optique (7) comprend une pluralité de miroirs individuels (11) qui peuvent être inclinés indépendamment l'un de l'autre par des actionneurs et sont raccordés à des actionneurs inclinables respectifs (12). Un dispositif de commande (14) est utilisé pour actionner les actionneurs (12). Un module de trame (19) du système d'éclairage optique (7) comprend une pluralité d'éléments de trame (28, 30) pour produire un agencement réparti dans l'espace de sources de lumière secondaires. Le module de trame (19) est agencé dans la région d'un plan (20) du système d'éclairage optique (7) dans laquelle un angle émergent (ARx), selon lequel une partie de faisceau de lumière d'éclairage (15) quitte l'un des éléments de trame (30), est alloué précisément à une région de position dans le champ d'objet (3), sur laquelle la partie de faisceau de lumière d'éclairage (15) affecte le champ d'objet (3). Le dispositif de commande (14) est configuré de telle manière qu'une spécification d'un angle d'inclinaison pour chaque miroir individuel (11) soit allouée à un trajet souhaité prédéterminé des répartitions de l'intensité en fonction de l'angle d'éclairage, avec laquelle les points de champ d'objet répartis sur le champ d'objet (3) sont affectés. En fonction de l'angle d'incidence réel respectif, le module de trame (19) produit un autre trajet d'intensité dans le champ d'objet (3) Le résultat est un système d'éclairage optique, une intensité d'éclairage sur le champ d'objet pouvant être influencée de manière ciblée par rapport à la totalité de l'intensité d'éclairage et/ou par rapport aux contributions en intensité des différentes directions d'éclairage.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)