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1. WO2011147799 - ULTRAKURZPULS-MIKROCHIPLASER, HALBLEITERLASER, LASERSYSTEM UND PUMPVERFAHREN FÜR DÜNNE LASERMEDIEN

Veröffentlichungsnummer WO/2011/147799
Veröffentlichungsdatum 01.12.2011
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2011/058401
Internationales Anmeldedatum 24.05.2011
IPC
H01S 3/06 2006.01
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
SVorrichtungen, die den Prozess der Lichtverstärkung durch stimulierte Emission von Strahlung verwenden, um Licht zu verstärken oder zu erzeugen; Vorrichtungen, die stimulierte Emission von elektromagnetischer Strahlung in anderen als optischen Wellenlängenbereichen verwenden
3Laser, d.h. Vorrichtungen, die stimulierte Emission elektromagnetischer Strahlung im infraroten, sichtbaren oder ultravioletten Wellenlängenbereich verwenden
05Aufbau oder Form optischer Resonatoren; Unterbringung des stimulierbaren Mediums darin; Form des stimulierbaren Mediums
06Aufbau oder Form des stimulierbaren Mediums
H01S 3/094 2006.01
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
SVorrichtungen, die den Prozess der Lichtverstärkung durch stimulierte Emission von Strahlung verwenden, um Licht zu verstärken oder zu erzeugen; Vorrichtungen, die stimulierte Emission von elektromagnetischer Strahlung in anderen als optischen Wellenlängenbereichen verwenden
3Laser, d.h. Vorrichtungen, die stimulierte Emission elektromagnetischer Strahlung im infraroten, sichtbaren oder ultravioletten Wellenlängenbereich verwenden
09Verfahren oder Geräte zur Anregung, z.B. zum Pumpen
091unter Verwendung von optischer Anregung
094mit kohärentem Licht
H01S 5/04 2006.01
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
SVorrichtungen, die den Prozess der Lichtverstärkung durch stimulierte Emission von Strahlung verwenden, um Licht zu verstärken oder zu erzeugen; Vorrichtungen, die stimulierte Emission von elektromagnetischer Strahlung in anderen als optischen Wellenlängenbereichen verwenden
5Halbleiterlaser
04Verfahren oder Geräte zur Anregung, z.B. zum Pumpen
H01S 5/183 2006.01
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
SVorrichtungen, die den Prozess der Lichtverstärkung durch stimulierte Emission von Strahlung verwenden, um Licht zu verstärken oder zu erzeugen; Vorrichtungen, die stimulierte Emission von elektromagnetischer Strahlung in anderen als optischen Wellenlängenbereichen verwenden
5Halbleiterlaser
10Aufbau oder Form des optischen Resonators
18Oberflächenemittierende Laser , z.B. mit sowohl horizontalen als auch vertikalen Resonatoren
183mit nur vertikalen Resonatoren, z.B. Vertical Cavity Surface-Emitting Lasers
H01S 3/102 2006.01
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
SVorrichtungen, die den Prozess der Lichtverstärkung durch stimulierte Emission von Strahlung verwenden, um Licht zu verstärken oder zu erzeugen; Vorrichtungen, die stimulierte Emission von elektromagnetischer Strahlung in anderen als optischen Wellenlängenbereichen verwenden
3Laser, d.h. Vorrichtungen, die stimulierte Emission elektromagnetischer Strahlung im infraroten, sichtbaren oder ultravioletten Wellenlängenbereich verwenden
10Steuern oder Regeln der Intensität, Frequenz, Phase, Polarität oder Richtung der ausgesendeten Strahlung, z.B. Schalten, Tasten, Modulieren oder Demodulieren
102durch Steuern des aktiven Mediums, z.B. durch Steuern des Verfahrens oder der Vorrichtung zur Anregung
H01S 3/113 2006.01
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
SVorrichtungen, die den Prozess der Lichtverstärkung durch stimulierte Emission von Strahlung verwenden, um Licht zu verstärken oder zu erzeugen; Vorrichtungen, die stimulierte Emission von elektromagnetischer Strahlung in anderen als optischen Wellenlängenbereichen verwenden
3Laser, d.h. Vorrichtungen, die stimulierte Emission elektromagnetischer Strahlung im infraroten, sichtbaren oder ultravioletten Wellenlängenbereich verwenden
10Steuern oder Regeln der Intensität, Frequenz, Phase, Polarität oder Richtung der ausgesendeten Strahlung, z.B. Schalten, Tasten, Modulieren oder Demodulieren
11in denen der Gütefaktor des optischen Resonators schnell geändert wird, d.h. Riesenpuls-Technik
113unter Verwendung von ausbleichbaren oder solarisierenden Mitteln
CPC
H01S 3/0604
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
06Construction or shape of active medium
0602Crystal lasers or glass lasers
0604in the form of a plate or disc
H01S 3/0612
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
06Construction or shape of active medium
0602Crystal lasers or glass lasers
0612Non-homogeneous structure
H01S 3/0627
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
06Construction or shape of active medium
0627the resonator being monolithic, e.g. microlaser
H01S 3/094038
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
091using optical pumping
094by coherent light
094038End pumping
H01S 3/094084
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
091using optical pumping
094by coherent light
094084with pump light recycling, i.e. with reinjection of the unused pump light, e.g. by reflectors or circulators
H01S 3/1022
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
3Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
102by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
1022by controlling the optical pumping
Anmelder
  • KOPF, Daniel [AT]/[AT]
Erfinder
  • KOPF, Daniel
Vertreter
  • KAMINSKI HARMANN PATENTANWÄLTE AG
Prioritätsdaten
10164247.828.05.2010EP
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) ULTRAKURZPULS-MIKROCHIPLASER, HALBLEITERLASER, LASERSYSTEM UND PUMPVERFAHREN FÜR DÜNNE LASERMEDIEN
(EN) ULTRASHORT PULSE MICROCHIP LASER, SEMICONDUCTOR LASER, LASER SYSTEM, AND PUMP METHOD FOR THIN LASER MEDIA
(FR) LASER MICRO-PUCE À IMPULSIONS ULTRA-COURTES, LASER SEMI-CONDUCTEUR, SYSTÈME LASER ET PROCÉDÉ DE POMPAGE POUR MILIEUX LASER MINCES
Zusammenfassung
(DE)
Ein optisch gepumpter Ultrakurzpuls-Mikrochiplaser zur Erzeugung einer Laseremission (LE) mit Femto- oder Pikosekundenpulsen weist ein Substrat (2b), ein verstärkendes Lasermedium (1), ein für optische Pumpstrahlung (PS) zumindest teilweise durchlässigen ersten Resonatorspiegel (3b) und insbesondere eine sättigbare Absorberstruktur (5) auf. Das Lasermedium (1) wird auf den Resonatorspiegel (3b) und das Substrat (2b) aufgebracht und nachfolgend in von der ursprünglichen Materialstärke auf eine Dicke von weniger als 200 μm reduziert. Um eine trotz dieser geringen Dicke befriedigende Leistungsaufnahme zu erreichen, wird die optische Pumpstrahlung (PS) so in das Lasermedium (1) eingekoppelt, dass Resonanz für die Laseremission (LE) und Intensitätsüberhöhung für die Pumpstrahlung (PS) auftreten.
(EN)
The invention relates to an optically pumped ultrashort pulse microchip laser for generating a laser emission (LE) having femto- or picosecond pulses, comprising a substrate (2b), an amplifying laser medium (1), a first resonator mirror (3b) that is at least partially transparent to optical pump radiation (PS), and in particular a saturable absorber structure (5). The laser medium (1) is applied to the resonator mirror (3b) and the substrate (2b) and subsequently reduced from the original material thickness to a thickness of less than 200 µm. In order to achieve satisfactory power absorption despite said low thickness, the optical pump radiation (PS) is coupled into the laser medium (1) such that resonance occurs for the laser emission (LE) and excess intensity increases occur for the pump radiation (PS).
(FR)
L'invention concerne un laser micro-puce à impulsions ultra-courtes, pour la production d'une émission laser (LE) à impulsions femto-secondes ou picose-secondes, comprenant un substrat (2b), un milieu amplificateur laser (1), un premier miroir résonateur (3b), perméable au moins partiellement, pour rayonnement de pompage optique (PS) et, en particulier, une structure absorbante saturable (5). Le milieu laser (1) est appliqué sur le miroir résonateur (3b) et le substrat (2b), puis réduit, de l'épaisseur de matériau initiale, à une épaisseur inférieure à 200 μm. En vue d'obtenir, en dépit de cette mince épaisseur, une réception de puissance satisfaisante, le rayonnement de pompage optique (PS) est injecté dans le milieu laser (1), de manière à avoir une résonance pour l'émission laser (LE) et une sur-augmentation d'intensité pour le rayonnement de pompage (PS).
Auch veröffentlicht als
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