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1. (WO2011110780) SUBSTRATE GEOMETRY FOR A FILTRATION MEMBRANE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/2011/110780 Internationale Anmeldenummer PCT/FR2011/050458
Veröffentlichungsdatum: 15.09.2011 Internationales Anmeldedatum: 04.03.2011
IPC:
B01D 63/06 (2006.01) ,B01D 69/04 (2006.01)
B Arbeitsverfahren; Transportieren
01
Physikalische oder chemische Verfahren oder Vorrichtungen allgemein
D
Trennen
63
Geräte allgemein für Trennprozesse unter Verwendung semipermeabler Membranen
06
Rohrmodule
B Arbeitsverfahren; Transportieren
01
Physikalische oder chemische Verfahren oder Vorrichtungen allgemein
D
Trennen
69
Semipermeable Membranen für Trennverfahren oder Geräte, durch ihre Form, Struktur oder Eigenschaften gekennzeichnet; spezielle Herstellungsverfahren hierfür
04
Rohrmembranen
Anmelder:
TECHNOLOGIES AVANCEES ET MEMBRANES INDUSTRIELLES [FR/FR]; ZA Les Laurons F-26110 Nyons, FR (AllExceptUS)
LESCOCHE, Philippe [FR/FR]; FR (UsOnly)
Erfinder:
LESCOCHE, Philippe; FR
Vertreter:
SARLIN, Laure; Cabinet Beau de Loménie 51 Avenue Jean Jaurès BP 7073 F-69301 Lyon Cedex 07, FR
Prioritätsdaten:
105173910.03.2010FR
105959522.11.2010FR
Titel (EN) SUBSTRATE GEOMETRY FOR A FILTRATION MEMBRANE
(FR) GEOMETRIE DE SUPPORT POUR UNE MEMBRANE DE FILTRATION
Zusammenfassung:
(EN) The present invention relates to a filtration element for filtering a fluid medium, comprising a cylindrical rigid porous substrate having a longitudinal central axis (A) and including a plurality of channels through which the fluid medium to be filtered can flow, in order for a filtrate to be obtained at the periphery of the substrate, said channels being provided in the substrate parallel to the central axis (A) thereof and defining at least three concentric filtration areas separated from one another by a continuous porous area. The invention is characterised in that the mean thickness of the porous area (Z1) closest to the central axis (A) is less than the mean thickness of the porous area (Zn-1) closest to the periphery of the substrate (1) and, moving from the central axis (A) of the substrate towards the periphery thereof, the mean thickness of a porous area is either identical to or less than that of the next area.
(FR) La présente invention concerne un élément de filtration pour la filtration d'un milieu fluide comportant un support poreux rigide de forme cylindrique présentant un axe central longitudinal (A) et comprenant une pluralité de canaux pour la circulation du milieu fluide à filtrer en vue de récupérer un filtrat à la périphérie du support, lesdits canaux étant ménagés dans le support parallèlement à son axe central (A) et définissant au moins trois zones de filtration qui sont réparties de manière concentrique et séparées les unes des autres par une zone poreuse continue, caractérisé en ce que l'épaisseur moyenne de la zone poreuse (Z1) la plus proche de l'axe central (A) est inférieure à l'épaisseur moyenne de la zone poreuse (Zn-1) la plus proche de la périphérie du support (1) et, lorsque l'on se déplace de l'axe central (A) du support vers sa périphérie, l'épaisseur moyenne d'une zone poreuse est soit identique à la suivante, soit inférieure.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Französisch (FR)
Anmeldesprache: Französisch (FR)
Auch veröffentlicht als:
EP2544801JP2013521124CN102858438US20130199991CA2792427RU2012141150
KR1020130016258RU0002562995NZ601801AU2011225913IN7249/DELNP/2012KR1020180032668
BR112012022720ES2712552