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1. (WO2011061086) BELICHTUNGSANLAGE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2011/061086    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2010/067010
Veröffentlichungsdatum: 26.05.2011 Internationales Anmeldedatum: 08.11.2010
IPC:
G02B 26/12 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/20 (2006.01)
Anmelder: KLEO AG [CH/CH]; Bahnhofstrasse 2 CH-9050 Appenzell (CH) (For All Designated States Except US).
OPOWER, Hans [DE/DE]; (DE) (For US Only).
JÜNGER, Klaus [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: OPOWER, Hans; (DE).
JÜNGER, Klaus; (DE)
Vertreter: HOEGER, STELLRECHT & PARTNER PATENTANWÄLTE; Uhlandstrasse 14c 70182 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
10 2009 046 809.9 18.11.2009 DE
Titel (DE) BELICHTUNGSANLAGE
(EN) EXPOSURE SYSTEM
(FR) INSTALLATION D'ÉCLAIRAGE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Bei einer Belichtungsanlage zum Erzeugen belichteter Strukturen in einer auf einem Objekt angeordneten fotosensitiven Schicht, umfassend einen das Objekt aufnehmenden Objektträger und eine Belichtungseinrichtung, wobei der Objektträger und die Belichtungseinrichtung relativ zueinander bewegbar sind und wobei mit der Belichtungseinrichtung Belichtungsflecken positionsgesteuert auf der fotosensitiven Schicht erzeugbar sind, dass aus der Belichtungseinrichtung Belichtungsstrahlen austreten, von denen mit jedem durch eine Abbildungseinheit ein Belichtungsfleck auf der fotosensitiven Schicht erzeugbar ist, wird vorgeschlagen, dass dem mindestens einen Ablenkelement mindestens eine erste einen Satz von ersten Belichtungsstrahlen erzeugende Belichtungseinheit und mindestens eine zweite einen Satz von zweiten Belichtungsstrahlen erzeugende Belichtungseinheit zugeordnet ist, deren erste bzw. zweite Belichtungsstrahlen von demselben Ablenkelement bei seiner Bewegung ablenkbar sind, und dass Spiegelflächenbereiche für die ersten Belichtungsstrahlen und die Spiegelflächenbereiche für die zweiten Belichtungsstrahlen in der Reihenrichtung relativ zueinander versetzt am Ablenkelement angeordnet sind.
(EN)The invention relates to an exposure system for generating exposed structures in a photosensitive layer disposed on an object, comprising an object carrier receiving the object and an exposure device, wherein the object carrier and the exposure device are displaceable relative to each other and wherein exposure spots can be generated by the exposure device at controlled positions on the photosensitive layer, such that exposure beams exit the exposure device, by each of which an exposure spot can be generated by an exposure unit on the photosensitive layer, wherein the invention proposes that at least one first exposure unit generating a first set of first exposure beams and at least one second exposure unit generating a set of second exposure beams are associated with the at least one deflecting element, the first or second exposure beams thereof being deflectable by means of same deflecting element during the displacement thereof, and mirror areas for the first exposure beams and the mirror areas for the second exposure beams are disposed offset relative to each other in the series direction at the deflecting element.
(FR)La présente invention a pour objet une installation d'éclairage pour la création de structures éclairées dans une couche photosensible disposée sur un objet, l'installation comportant un support d'objet supportant l'objet et un dispositif d'éclairage, le support d'objet et le dispositif d'éclairage étant mobiles l'un par rapport à l'autre, et des taches d'éclairage commandées en position sur la couche photosensible pouvant être produites par le dispositif d'éclairage, de sorte que des rayons de lumière sortent du dispositif d'éclairage, à partir de chacun desquels rayons une unité de reproduction peut créer sur la couche photosensible une tache de lumière. Il est prévu qu'à au moins un élément dévié est associée au moins une première unité d'éclairage produisant une série de premiers rayons de lumière et au moins une seconde unité d'éclairage produisant une série de seconds rayons de lumière, ses premiers ou respectivement ses seconds rayons de lumière pouvant être déviés du même élément dévié du fait de son mouvement, et que les régions de surfaces spéculaires pour les premiers rayons de lumière et les régions de surfaces spéculaires pour les seconds rayons de lumière sont disposées de façon décalée l'une par rapport à l'autre dans la direction de la série, sur l'élément dévié.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)