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1. (WO2011036260) VERFAHREN ZUM GALVANISIEREN UND ZUR PASSIVIERUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2011/036260    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2010/064167
Veröffentlichungsdatum: 31.03.2011 Internationales Anmeldedatum: 24.09.2010
IPC:
C25D 5/10 (2006.01), C25D 5/18 (2006.01), C25D 9/08 (2006.01), C25D 5/48 (2006.01), C25D 9/10 (2006.01)
Anmelder: DAMERON, Stefan [DE/FR]; (FR)
Erfinder: DAMERON, Stefan; (FR)
Vertreter: GULDE HENGELHAUPT ZIEBIG & SCHNEIDER; Wallstraße 58/59 10179 Berlin (DE)
Prioritätsdaten:
10 2009 044 982.5 24.09.2009 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUM GALVANISIEREN UND ZUR PASSIVIERUNG
(EN) METHOD FOR GALVANIZING AND PASSIVATION
(FR) PROCÉDÉ DE GALVANISATION ET DE PASSIVATION
Zusammenfassung: front page image
(DE)Um ein Galvanisierungsverfahren bereitzustellen, mit dem leitfähige Gegenstände einfach und kostengünstig galvanisch beschichtet und gleichzeitig passiviert werden können, wird vorgeschlagen, dass ein Substrat in ein Galvanisierbad getaucht wird, das Ionen mindestens eines Metalls zur elektrochemischen Abscheidung auf der Substratoberfläche, Ionen mindestens eines Übergangsmetalles und ein Lösemittel aufweist, wobei das Substrat die Kathode einer elektro-chemischen Zelle bildet, und dass an der elektrochemischen Zelle eine Spannung angelegt wird, wodurch ein Stromfluss erfolgt, der zur Abscheidung zumindest des mindestens einen Metalls auf der Subratoberfläche führt, dass nach Abscheidung des mindestens einen Metalls der Stromfluss unterbrochen wird, und anschließend an der Kathode ein Potential erzeugt wird bzw. eine zusätzliche Elektrode aus dem Material des Substrates, die mit dem Substrat leitend verbunden sein kann, in das Galvanisierbad getaucht wird, und für einen Zeitraum beibehalten wird bzw. eingetaucht bleibt.
(EN)In order to provide a galvanizing method which can be used to electroplate and simultaneously passivate conductive objects easily and cost-effectively a substrate is immersed into a galvanizing bath which comprises ions of at least one metal for electrochemical deposition on the substrate surface, ions of at least one transition metal, and a solvent, the substrate forming the cathode of an electrochemical cell; a voltage is applied to the electrochemical cell, producing a current flow that leads to the deposition at least of the at least one metal on the substrate surface; the current flow is interrupted after the deposition of the at least one metal; and subsequently a potential is generated at the cathode, or an additional electrode which is made of the material of the substrate and may be conductively connected to the substrate is immersed in the galvanizing bath, and said potential is maintained or said electrode remains immersed for a time period.
(FR)L'invention vise à mettre en oeuvre un procédé de galvanisation permettant de revêtir galvaniquement et de passiver simultanément des objets conducteurs, de façon simple et économique. A cet effet, un substrat est immergé dans un bain de galvanisation contenant des ions d'au moins un métal pour le dépôt électrochimique sur la surface du substrat, des ions d'au moins un métal de transition et un solvant, le substrat formant la cathode d'une cellule électrochimique; une tension est appliquée à la cellule électrochimique de manière à produire un flux de courant qui entraîne le dépôt au moins du ou des métaux sur la surface du substrat; après dépôt du ou des métaux, le flux de courant est interrompu; puis un potentiel est produit sur la cathode ou une électrode supplémentaire réalisée dans le matériau du substrat, pouvant être connectée de façon conductrice au substrat, est immergée dans le bain de galvanisation et conservée ou maintenue immergée pendant un intervalle de temps.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)