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1. (WO2011035889) ALUMOSILIKATGLÄSER MIT HOHER THERMISCHER BESTÄNDIGKEIT UND NIEDRIGER VERARBEITUNGSTEMPERATUR
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2011/035889    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2010/005781
Veröffentlichungsdatum: 31.03.2011 Internationales Anmeldedatum: 22.09.2010
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    20.07.2011    
IPC:
C03C 3/087 (2006.01), C03C 4/00 (2006.01)
Anmelder: SCHOTT AG [DE/DE]; Hattenbergstraße 10 55122 Mainz (DE) (For All Designated States Except US).
FECHNER, Jörg, Hinrich [DE/DE]; (DE) (For US Only).
OTT, Franz [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DICK, Erhard [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KASS, Christof [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: FECHNER, Jörg, Hinrich; (DE).
OTT, Franz; (DE).
DICK, Erhard; (DE).
KASS, Christof; (DE)
Vertreter: SAWODNY, Michael; Dreiköniggasse 10 89073 Ulm (DE)
Prioritätsdaten:
10 2009 042 796.1 25.09.2009 DE
Titel (DE) ALUMOSILIKATGLÄSER MIT HOHER THERMISCHER BESTÄNDIGKEIT UND NIEDRIGER VERARBEITUNGSTEMPERATUR
(EN) ALUMINOSILICATE GLASS HAVING HIGH THERMAL STABILITY AND LOW PROCESSING TEMPERATURE
(FR) VERRES ALUMINOSILICATE PRÉSENTANT UNE GRANDE RÉSISTANCE THERMIQUE ET UNE TEMPÉRATURE DE FAÇONNAGE PEU ÉLEVÉE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Alumosilikatglas, das einen thermischen Wärmeausdehnungskoeffizienten im Bereich von 8 bis 10 x 10-6/K im Temperaturbereich von 20 bis 300°C, eine Transformationstemperatur Tg im Bereich von von 580°C bis 640°C sowie eine Verarbeitungstemperatur VA im Bereich von 1065°C bis 1140°C aufweist und daher als Alternative für Kalk- Natron-Gläser eingesetzt werden kann. Gegenstand der Erfindung ist auch die Verwendung der erfindungsgemäßen Gläser bei Anwendungen, bei denen eine hohe Temperaturbelastbarkeit der Gläser von Vorteil ist, insbesondere als Substratglas, Superstratglas und/oder Deckglas im Bereich der Halbleitertechnologie, bevorzugt für Cd-Te- oder für CIS- bzw. CIGS-Photovoltaik- Anwendungen und bei anderen Anwendungen der Solartechnologie.
(EN)The invention relates to an aluminosilicate glass having a thermal expansion coefficient ranging from 8 to 10 x 10-6/K in a temperature range of 20 to 300ºC, a transformation temperature Tg ranging from 580ºC to 640ºC, and a processing temperature VA ranging from 1065ºC to 1140ºC, and thus can be used as an alternative to soda lime glass. The invention further relates to the use of the glass according to the invention in applications where high thermal resistance of the glass is advantageous, in particular as substrate glass, superstrate glass and/or cover glass in the field of semiconductor technology, preferably for Cd-Te or for CIS and/or CIGS photovoltaic applications, and for other applications in solar technology.
(FR)La présente invention concerne un verre aluminosilicate présentant un coefficient de dilatation thermique qui va de 8 à 10 x 10-6/K dans une plage de températures comprise entre 20 et 300°C, une température de transformation Tg comprise entre 580°C et 640°C et une température de façonnage VA comprise entre 1065°C et 1140°C, ce qui permet de l'utiliser comme alternative aux verres sodocalciques. L'invention concerne également l'utilisation desdits verres dans des applications où il est avantageux que les verres supportent de fortes contraintes de température, notamment en tant que verre substrat, verre superstrat et/ou verre de protection dans le domaine des semi-conducteurs, de préférence pour des applications dans des systèmes photovoltaïques au Cd-Te, CIS ou CIGS et pour d'autres applications dans le domaine des technologies solaires.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)