WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Suche
 
Durchsuchen
 
Übersetzen
 
Optionen
 
Aktuelles
 
Einloggen
 
Hilfe
 
Maschinelle Übersetzungsfunktion
1. (WO2011006522) MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MEASURING A PARAMETER RELATED TO AN OPTICAL SURFACE CONTAINED THEREIN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2011/006522    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP2009/005225
Veröffentlichungsdatum: 20.01.2011 Internationales Anmeldedatum: 17.07.2009
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
PATRA, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: PATRA, Michael; (DE)
Vertreter: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner Epplestrasse 14 70597 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
Titel (EN) MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MEASURING A PARAMETER RELATED TO AN OPTICAL SURFACE CONTAINED THEREIN
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE MESURE D'UN PARAMÈTRE ASSOCIÉ À UNE SURFACE OPTIQUE CONTENUE DANS CELUI-CI
Zusammenfassung: front page image
(EN)A microlithographic projection exposure apparatus comprises an optical surface (46; M6) and a measurement device (90) which measures a parameter related to the optical surface at a plurality of separated areas on the optical surface. The measurement device comprises an illumination unit (92) which directs individual measuring light beams (94) towards the areas on the optical surface. Each measuring light beam illuminates at least a portion of an area, which is associated with the measuring light beam, and at least a portion of an adjacent area which is not associated with the measuring light beam. A detector unit (96) measures a property for each measuring light beam after it has interacted with the optical surface. An evaluation unit (102) determines the surface related parameter for a selected area on the basis of the properties determined by the detector unit (96) for the measuring light beam that is associated with the selected area, and for at least one measuring light beam that is associated with an area adjacent to the selected area.
(FR)L'invention porte sur un appareil d'exposition par projection microlithographique et comprend une surface optique (46; M6) et un dispositif de mesure (90) qui mesure un paramètre associé à la surface optique en une pluralité de zones séparées sur la surface optique. Le dispositif de mesure comprend une unité d'éclairement (92) qui dirige des faisceaux lumineux de mesure individuels (94) vers les zones sur la surface optique. Chaque faisceau lumineux de mesure éclaire au moins une partie d'une zone, qui est associée au faisceau lumineux de mesure, et au moins une partie d'une zone adjacente qui n'est pas associée au faisceau lumineux de mesure. Une unité de détecteur (96) mesure une propriété pour chaque faisceau lumineux de mesure après qu'il a interagi avec la surface optique. Une unité d'évaluation (102) détermine le paramètre associé à la surface pour une zone sélectionnée en fonction des propriétés déterminées par l'unité de détecteur (96) pour le faisceau lumineux de mesure qui est associé à la zone sélectionnée, et pour au moins un faisceau lumineux de mesure qui est associé à une zone adjacente à la zone sélectionnée.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)