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1. (WO2011003832) POLYMER ODER POLYMERNETZWERK
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2011/003832    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2010/059479
Veröffentlichungsdatum: 13.01.2011 Internationales Anmeldedatum: 02.07.2010
IPC:
B29C 61/00 (2006.01), B29C 61/06 (2006.01)
Anmelder: TECHNISCHE UNIVERSITÄT DORTMUND [DE/DE]; August-Schmidt-Straße 4 44227 Dortmund (DE) (For All Designated States Except US).
TILLER, Jörg, Christian [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KATZENBERG, Frank [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HEUWERS, Benjamin [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: TILLER, Jörg, Christian; (DE).
KATZENBERG, Frank; (DE).
HEUWERS, Benjamin; (DE)
Vertreter: MICHALSKI HÜTTERMANN & PARTNER; Neuer Zollhof 2 40221 Düsseldorf (DE)
Prioritätsdaten:
10 2009 027 490.1 06.07.2009 DE
Titel (DE) POLYMER ODER POLYMERNETZWERK
(EN) POLYMER OR POLYMER NETWORK
(FR) POLYMÈRE OU RÉSEAU POLYMÈRE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Ein Polymer oder Polymernetzwerk, (32) welches Kristalle in einem gespannten, formstabilen, Zustand aufweist, wobei die Kristalle in dem gespannten, formstabilen, Zustand durch Einwirken eines äußeren Reizes bei Erreichen einer Kollabierungsschwelle zerreißen können, wobei die Kollabierungsschwelle innerhalb eines definierbaren Bereiches frei einstellbar ist und sich bei dem Zerreißen die in dem gespannten, formstabilen Zustand vorliegenden Kristalle auflösen und sich das Polymer oder Polymernetzwerk (32) bei der Relaxation vom formstabilen, gedehnten Zustand in den ungedehnten Zustand abkühlt und zwar unterhalb der Umgebungstemperatur und die Programmierung, d.h. Überführung des Polymers oder Polymernetzwerks in den gespannten formstabilen Zustand, bei Raumtemperatur möglich ist.
(EN)The invention relates to a polymer or polymer network (32) comprising crystals in a stressed, dimensionally-stable state, wherein the crystals in the stressed, dimensionally-stable state can tear under the effect of an external cause upon reaching a collaboration threshold, wherein the collaboration threshold can be freely set within a definable range and the crystals present in the stressed, dimensionally-stable state dissolve upon tearing, and the polymer or polymer network (32) cools off during relaxing from the dimensionally-stable, strained state into the unstrained state, that is, below the ambient temperature, and the programming, i.e. the transition of the polymer or polymer network into the stressed, dimensionally-stable state, is possible at room temperature.
(FR)L'invention concerne un polymère ou un réseau polymère (32), présentant des cristaux en un état de tension et de stabilité dimensionnelle, lesdits cristaux en l'état de tension et de stabilité dimensionnelle, pouvant se rompre, sous l'effet d'une excitation extérieure, lorsqu'on atteint un seuil d'effondrement de structure, le seuil d'effondrement pouvant être réglé librement dans un domaine défini; les cristaux existant en l'état de tension et de stabilité dimensionnelle se séparent, lors de la rupture, et le polymère ou le réseau polymère (32) se refroidit, lors de la relaxation, de l'état tendu, à stabilité dimensionnelle, en l'état non tendu, ceci au-dessous de la température ambiante, et la programmation, c'est-à-dire le passage du polymère ou du réseau polymère en l'état de tension et de stabilité dimensionnelle est possible à température ambiante.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)