In Bearbeitung

Bitte warten ...

Einstellungen

Einstellungen

1. WO2010102649 - MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Veröffentlichungsnummer WO/2010/102649
Veröffentlichungsdatum 16.09.2010
Internationale Veröffentlichungsnummer PCT/EP2009/001827
Internationales Anmeldedatum 13.03.2009
IPC
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G03F 7/20 (2006.01)
CPC
G02B 26/0833
G03F 7/70116
G03F 7/70266
G03F 7/70591
G03F 7/706
G03F 7/7085
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 D-73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
  • DEGUENTHER, Markus [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • PATRA, Michael [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • MAJOR, András, G. [HU/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder
  • DEGUENTHER, Markus; DE
  • PATRA, Michael; DE
  • MAJOR, András, G.; DE
Vertreter
  • WEDEKIND, Frank; Carl Zeiss AG Patentabteilung Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen, DE
Prioritätsdaten
Veröffentlichungssprache Englisch (EN)
Anmeldesprache Englisch (EN)
Designierte Staaten
Titel
(EN) MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung
(EN)
A microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises an optical surface, which may be formed by a plurality of micro-mirrors (Mij) and a measurement device which is configured to measure a parameter related to the optical surface at a plurality of locations. The measurement device comprises an illumination unit (92) comprising a plurality of illumination members (104, 118) each having a light exit facet (106). An optical imaging system (110) establishes an imaging relationship between an object plane (108) in which at least two light exit facets (106) are arranged, and an image plane (112) which at least substantially coincides with the optical surface. A detector unit (96) measures the property of measuring light after it has interacted with the optical surface and an evaluation unit (102) determines the surface related parameter for each of the locations on the basis of the properties determined by the detector unit (96).
(FR)
L'invention porte sur un appareil d'exposition par projection microlithographique (10) qui comporte une surface optique, qui peut être formée par une pluralité de micro-miroirs (Mij) et un dispositif de mesure qui est configuré pour mesurer un paramètre associé à la surface optique en une pluralité d'emplacements. Le dispositif de mesure comporte une unité d'éclairage (92) comportant une pluralité d'éléments d'éclairage (104, 118) ayant chacun une facette de sortie de lumière (106). Un système d'imagerie optique (110) établit une relation d'imagerie entre un plan objet (108) dans lequel au moins deux facettes de sortie de lumière (106) sont disposées, et un plan image (112) qui coïncide, au moins sensiblement, avec la surface optique. Une unité détectrice (96) mesure la propriété de la lumière de mesure après qu'elle a interagi avec la surface optique, et une unité d'évaluation (102) détermine le paramètre associé à la surface pour chacun des emplacements sur la base des propriétés déterminées par l'unité détectrice (96).
Auch veröffentlicht als
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten