WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Suche
 
Durchsuchen
 
Übersetzen
 
Optionen
 
Aktuelles
 
Einloggen
 
Hilfe
 
Maschinelle Übersetzungsfunktion
1. (WO2010102649) MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2010/102649    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2009/001827
Veröffentlichungsdatum: 16.09.2010 Internationales Anmeldedatum: 13.03.2009
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 D-73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
DEGUENTHER, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
PATRA, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MAJOR, András, G. [HU/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: DEGUENTHER, Markus; (DE).
PATRA, Michael; (DE).
MAJOR, András, G.; (DE)
Vertreter: WEDEKIND, Frank; Carl Zeiss AG Patentabteilung Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen (DE)
Prioritätsdaten:
Titel (EN) MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung: front page image
(EN)A microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises an optical surface, which may be formed by a plurality of micro-mirrors (Mij) and a measurement device which is configured to measure a parameter related to the optical surface at a plurality of locations. The measurement device comprises an illumination unit (92) comprising a plurality of illumination members (104, 118) each having a light exit facet (106). An optical imaging system (110) establishes an imaging relationship between an object plane (108) in which at least two light exit facets (106) are arranged, and an image plane (112) which at least substantially coincides with the optical surface. A detector unit (96) measures the property of measuring light after it has interacted with the optical surface and an evaluation unit (102) determines the surface related parameter for each of the locations on the basis of the properties determined by the detector unit (96).
(FR)L'invention porte sur un appareil d'exposition par projection microlithographique (10) qui comporte une surface optique, qui peut être formée par une pluralité de micro-miroirs (Mij) et un dispositif de mesure qui est configuré pour mesurer un paramètre associé à la surface optique en une pluralité d'emplacements. Le dispositif de mesure comporte une unité d'éclairage (92) comportant une pluralité d'éléments d'éclairage (104, 118) ayant chacun une facette de sortie de lumière (106). Un système d'imagerie optique (110) établit une relation d'imagerie entre un plan objet (108) dans lequel au moins deux facettes de sortie de lumière (106) sont disposées, et un plan image (112) qui coïncide, au moins sensiblement, avec la surface optique. Une unité détectrice (96) mesure la propriété de la lumière de mesure après qu'elle a interagi avec la surface optique, et une unité d'évaluation (102) détermine le paramètre associé à la surface pour chacun des emplacements sur la base des propriétés déterminées par l'unité détectrice (96).
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: English (EN)
Anmeldesprache: English (EN)