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1. (WO2010028909) OPTISCHE POSITIONSMESSEINRICHTUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2010/028909    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2009/059731
Veröffentlichungsdatum: 18.03.2010 Internationales Anmeldedatum: 28.07.2009
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    11.03.2010    
IPC:
G01D 5/347 (2006.01)
Anmelder: DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH [DE/DE]; Dr.-Johannes-Heidenhain-Str. 5 83301 Traunreut (DE) (For All Designated States Except US).
HOLZAPFEL, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LINGK, Christoph [DE/DE]; (DE) (For US Only).
VOGT, Gerhard [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: HOLZAPFEL, Wolfgang; (DE).
LINGK, Christoph; (DE).
VOGT, Gerhard; (DE)
Allgemeiner
Vertreter:
DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH; Postfach 1260 83292 Traunreut (DE)
Prioritätsdaten:
10 2008 046 793.6 11.09.2008 DE
Titel (DE) OPTISCHE POSITIONSMESSEINRICHTUNG
(EN) OPTICAL POSITION MEASURING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE DE POSITION OPTIQUE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Es wird eine optische Positionsmesseinrichtung angegeben, die zur Erfassung der Relativposition einer Abtasteinheit sowie einer hierzu in der Maßverkörperungsebene angeordneten und mindestens in einer Messrichtung beweglichen Maßverkörperung dient. Die Maßverkörperung erstreckt sich entlang einer ersten Geraden oder einer ersten gekrümmten Line. Die Abtasteinheit umfasst eine Lichtquelle sowie eine in einer Detektionsebene angeordnete und sich entlang einer zweiten Linie erstreckende Detektoranordnung, deren Krümmung verschieden von der ersten Geraden oder der ersten gekrümmten Linie ist. Es erfolgt eine Transformation eines aus der Abtastung der Maßverkörperung resultierenden Streifenmusters in ein sich entlang der zweiten Linie erstreckendes Streifenmuster. Zur Transformation sind die Maßverkörperungsebene und die Detektionsebene nicht-parallel zueinander angeordnet.
(EN)The invention relates to an optical position measuring device which is used to determine the relative position of a sampling unit and a material measure which can be displaced at least in one measuring direction and which is arranged on the material measure plane. Said material measure extends along a first straight line or a curved line. Said sampling unit comprises a light source and a detector arrangement which extends along a second line and which is arranged on a detection plane, said curve being different from the first straight line or the first curved line. A stripe pattern resulting in the sampling of the material measure transforms into a stripe pattern extending along the second line. The material measure plane and the detection plane are not parallel to each other for transformation.
(FR)L'invention concerne un dispositif de mesure de position optique servant à déterminer la position relative d'une unité de balayage et d'un étalon placé dans un plan étalon et mobile au moins dans une direction de mesure. L'étalon s'étend le long d'une première ligne droite ou d'une première ligne courbe. L'unité de balayage comprend une source lumineuse ainsi qu'un système de détection, placé dans un plan de détection et s'étendant le long d'une seconde ligne dont la courbure est différente de la première ligne droite ou de la première ligne courbe. Une figure de franges obtenue par balayage de l'étalon est transformée en une figure de franges s'étendant le long de la seconde ligne. Pour la transformation, le plan étalon et le plan de détection sont placés de manière non parallèle.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)