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1. (WO2010016028) VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR ERZEUGUNG VON AZIMUTALER POLARISATION IN EINER LASERLICHTQUELLE UND VERWENDUNG DIESER ANORDNUNG ZUR LASERMATERIALBEARBEITUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2010/016028    Internationale Anmeldenummer    PCT/IB2009/053440
Veröffentlichungsdatum: 11.02.2010 Internationales Anmeldedatum: 06.08.2009
IPC:
H01S 3/081 (2006.01), B23K 26/38 (2006.01)
Anmelder: BYSTRONIC LASER AG [CH/CH]; Industriestrasse 21 CH-3362 Niederönz (CH) (For All Designated States Except US).
STEFFEN, Jürg [CH/CH]; (CH) (For US Only).
WITTWER, Stefan [CH/CH]; (CH) (For US Only).
REBER, Thomas [CH/CH]; (CH) (For US Only)
Erfinder: STEFFEN, Jürg; (CH).
WITTWER, Stefan; (CH).
REBER, Thomas; (CH)
Vertreter: ROSENICH, Paul; Patentbüro Paul Rosenich AG BGZ FL-9497 Triesenberg (LI)
Prioritätsdaten:
1244/08 08.08.2008 CH
Titel (DE) VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR ERZEUGUNG VON AZIMUTALER POLARISATION IN EINER LASERLICHTQUELLE UND VERWENDUNG DIESER ANORDNUNG ZUR LASERMATERIALBEARBEITUNG
(EN) METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING AZIMUTHAL POLARIZATION IN A LASER LIGHT SOURCE AND USE OF SAID APPARATUS FOR LASER MATERIAL PROCESSING
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR GÉNÉRER UNE POLARISATION AZIMUTALE DANS UNE SOURCE DE LUMIÈRE LASER ET UTILISATION DE CE DISPOSITIF POUR USINAGE AU LASER
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft einen Laser (1) mit einem Laserstrahlengang für einen Laserstrahl mit einem Anteil eines azimutalen Polarisationszustands in einem Laserresonator, wobei der Laserstrahlengang zwischen zwei um einen Aufweitungswinkel strahlaufweitenden optischen Komponenten (2, 3) eine strahlfokussierende optische Komponente (4) mit Spiegelflächen aufweist, an denen im Betriebszustand des Lasers das von den strahlaufweitenden optischen Komponenten auf diese Spiegelfächen gelenkte Licht unter einem Winkel am oder nahe dem Brewster-Winkel auftrifft und reflektiert wird, wobei der Anteil des azimutalen Polarisationszustands durch selektive Minimierung von dessen Verlusten bei der Reflexion maximiert wird.
(EN)The invention relates to a laser (1) comprising a laser beam path for a laser beam, a fraction of which is in a state of azimuthal polarization, in a laser resonator, wherein the laser beam path comprises a beam-focusing optical component (4) that spreads the beam by a spreading angle between two optical components (2, 3), said optical component comprising mirror surfaces at which the light that is aimed by the beam spreading optical components at said mirror surfaces during operation of the laser is received and reflected at an angle at or near the Brewster angle, wherein the fraction of azimuthal polarization condition is maximized through the selective minimization of losses thereof during reflection.
(FR)L’invention concerne un laser (1) doté d’un passage de faisceau laser pour un faisceau laser présentant une proportion d’un état de polarisation azimutale dans un résonateur laser, le passage du faisceau laser comportant, entre deux composants optiques (2, 3), élargissant le faisceau selon un angle d’élargissement, un composant optique (4) de focalisation de faisceau ayant des surfaces de miroir sur lesquelles, dans l’état de fonctionnement du laser, la lumière, déviée par les composants optiques divergeant le faisceau sur ces surfaces de miroir, est incidente et réfléchie selon un angle égal à ou proche de l’angle de Brewster, la proportion de l’état de polarisation azimutale étant rendue maximale par le biais d’une minimalisation sélective des pertes de cette proportion lors de la réflexion.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)