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1. (WO2010015384) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SICHERHEITSELEMENTEN MIT GEPASSERTEN MOTIVSCHICHTEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2010/015384    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2009/005643
Veröffentlichungsdatum: 11.02.2010 Internationales Anmeldedatum: 04.08.2009
IPC:
B42D 15/10 (2006.01), B42D 15/00 (2006.01)
Anmelder: GIESECKE & DEVRIENT GMBH [DE/DE]; Prinzregentenstrasse 159 81677 München (DE) (For All Designated States Except US).
HOFFMÜLLER, Winfried [DE/DE]; (DE) (For US Only).
RENNER, Patrick [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HEIM, Manfred [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BURCHARD, Theodor [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: HOFFMÜLLER, Winfried; (DE).
RENNER, Patrick; (DE).
HEIM, Manfred; (DE).
BURCHARD, Theodor; (DE)
Vertreter: KSNH PATENTANWÄLTE; Klunker . Schmitt-Nilson . Hirsch Destouchesstrasse 68 80796 München (DE)
Prioritätsdaten:
10 2008 036 480.0 05.08.2008 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SICHERHEITSELEMENTEN MIT GEPASSERTEN MOTIVSCHICHTEN
(EN) METHOD FOR THE PRODUCTION OF SECURITY ELEMENTS HAVING REGISTERED LAYERS OF DESIGNS
(FR) PROCÉDÉ POUR PRODUIRE DES ÉLÉMENTS DE SÉCURITÉ PRÉSENTANT DES COUCHES DE MOTIFS EN REGISTRE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements (1), ein nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhältliches Sicherheitselement (1), Transfermaterialien mit den erfindungsgemäßen Sicherheitselementen sowie mit den erfindungsgemäßen Sicherheitselementen gesicherte Wertgegenstände. Das erfindungsgemäße Sicherheitselement (1) weist zwei Funktionsschichten (12, 22) auf, die mittels einer Resistschicht (30) miteinander verklebt sind. Die Resistschicht (30) weist ein Muster auf, das verwendet wird, um in der ersten Funktionsschicht (12) ein deckungsgleiches Muster zu erzeugen. Dann wird das Muster der Resistschicht (30), und somit auch der ersten Funktionsschicht (12), in der zweiten Funktionsschicht (22) exakt reproduziert. Dies gelingt dadurch, dass die zweite Funktionsschicht (22) in Form des Musters der Resistschicht (30) verklebt wird. Die nicht verklebten Bereiche der zweiten Funktionsschicht (22) werden entfernt, wodurch eine Negativschrift ausgebildet wird.
(EN)The invention relates to a method for producing a security element (1), a security element (1) obtained according to the claimed method, transfer materials containing the claimed security elements, and objects of value secured by means of the claimed security elements. The claimed security element (1) comprises two functional layers (12, 22) which are glued together by means of a resist layer (30). The resist layer (30) has a pattern that is used for generating a congruous pattern in the first functional layer (12). The pattern of the resist layer (30), and thus also of the first functional layer (12), is then accurately reproduced in the second functional layer (22). In order to do so, the second functional layer (22) is glued in the form of the pattern of the resist layer (30). The zones of the second functional layer that do not adhere are removed such that a reversed-out type is formed.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour produire un élément de sécurité (1), un élément de sécurité (1) pouvant être obtenu par ce procédé, des matières de transfert comprenant les éléments de sécurité selon l'invention, ainsi que des objets de valeur sécurisés au moyen des éléments de sécurité selon l'invention. L'élément de sécurité (1) selon l'invention présente deux couches fonctionnelles (12, 22) qui sont collées l'une à l'autre au moyen d'une couche de résist (30). La couche de résist (30) présente un motif qui est utilisé pour produire un motif coïncident dans la première couche fonctionnelle (12). Le motif de la couche de résist (30), et ainsi de la première couche fonctionnelle (12), est reproduit à l'identique dans la seconde couche fonctionnelle (22). À cet effet, la seconde couche fonctionnelle (22) est collée sous la forme du motif de la couche de résist (30). Les zones non collées de la seconde couche fonctionnelle (22) sont éliminées, des caractères négatifs étant ainsi formés.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)