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1. (WO2010012541) MIKROMECHANISCHE STRUKTUR SOWIE VERFAHREN ZUM EINSTELLEN DER ARBEITSSPALTBREITE EINER MIKROMECHANISCHEN STRUKTUR
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2010/012541    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2009/057387
Veröffentlichungsdatum: 04.02.2010 Internationales Anmeldedatum: 15.06.2009
IPC:
B81B 3/00 (2006.01)
Anmelder: ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart (DE) (For All Designated States Except US).
FRIEDRICH, Thomas [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MEISEL, Daniel, Christoph [DE/DE]; (DE) (For US Only).
RAUDZIS, Carsten [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: FRIEDRICH, Thomas; (DE).
MEISEL, Daniel, Christoph; (DE).
RAUDZIS, Carsten; (DE)
Allgemeiner
Vertreter:
ROBERT BOSCH GMBH; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart (DE)
Prioritätsdaten:
10 2008 040 854.9 30.07.2008 DE
Titel (DE) MIKROMECHANISCHE STRUKTUR SOWIE VERFAHREN ZUM EINSTELLEN DER ARBEITSSPALTBREITE EINER MIKROMECHANISCHEN STRUKTUR
(EN) MICROMECHANICAL STRUCTURE AND METHOD FOR SETTING THE WORKING GAP WIDTH OF A MICROMECHANICAL STRUCTURE
(FR) STRUCTURE MICROMÉCANIQUE ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DE LA LARGEUR DE L'ESPACE DE TRAVAIL D'UNE STRUCTURE MICROMÉCANIQUE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine mikromechanische Struktur (1), insbesondere Sensor oder Aktor, mit mindestens einem von mindestens zwei relativ zueinander verstellbaren Strukturabschnitten (6, 7, 8, 9) begrenzten Arbeitsspalt (4, 5) und mit Mitteln zum Einstellen der Arbeitsspaltbreite. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Mittel den Arbeitsspalt (4, 5) durch Verstellen des mindestens einen, während des Betriebs der mikromechanischen Struktur (1) relativ zu einem Bezugspunkt feststehenden, Strukturabschnitts (6, 7) relativ zu dem, im Betrieb relativ zu diesem Bezugspunkt beweglichen, Strukturabschnitt (8, 9) verbreiternd ausgebildet sind. Ferner betrifft die Erfindüng ein Verfahren zum Einstellen einer Arbeitsspaltbreite.
(EN)The invention relates to a micromechanical structure (1), in particular sensor or actuator, comprising at least one working gap (4, 5) delimited by at least two structure sections (6, 7, 8, 9) which are adjustable relative to one another, and comprising means for setting the working gap width. The invention provides for the means to be embodied such that they widen the working gap (4, 5) by adjusting the at least one structure section (6, 7) that is stationary relative to a reference point during operation of the micromechanical structure (1) relative to the structure section (8, 9) that is movable relative to said reference point during operation. The invention furthermore relates to a method for setting a working gap width.
(FR)La présente invention concerne une structure micromécanique (1), notamment un capteur ou un actionneur, comprenant au moins un espace de travail (4, 5) défini par au moins deux parties de structure (6, 7, 8, 9) pouvant être déplacées les unes par rapport aux autres, ainsi que des moyens de réglage de la largeur de l'espace de travail. Selon l'invention, lesdits moyens sont conçus de manière à élargir l'espace de travail (4, 5) par déplacement de la/des partie(s) de structure (6, 7) qui est/sont fixe(s) par rapport à un point de référence lors du fonctionnement de la structure micromécanique (1) par rapport à la partie de structure (8, 9) qui est mobile par rapport à ce point de référence lors du fonctionnement. L'invention concerne également un procédé de réglage de la largeur d'un espace de travail.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)